中古 UNAXIS / OERLIKON / ESEC KAI-1 1200 Gen 5 #9195317 を販売中
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ID: 9195317
ヴィンテージ: 2008
PECVD System
Reactor (Industrial glass size):
Version of commercial KAI 1200 machines inside
OERLIKON PV module turn-key production lines
Amorphous and microcrystalline thin silicon film deposition
1.1 m x 1.3 m glass substrates of 2-4 mm thickness
(2) Reactors: aSi, µcSi layer deposition
Load lock
Glass loading table (Extractable to deliver glass into load lock)
Process unit with (2) PECVD reactors
Equipped with ADVANCED ENERGY Cesar 4 kW 40.68 MHz RF Generator
(15) Mass flow controllers
IDEM MFCs
Max temp: 200°C
EBARA Dry pumps
Front loader system
Films deposited:
aSi/µcSi tandem thin film silicon solar cells
With (Containing intrinsic aSi and µcSi films and their carbon-containing /p- and n-doped declinations)
Self cleaning process with NF3 (No residues in both reactors)
Gas supply and pump connected
Spare parts included
2008 vintage.
UNAXIS/OERLIKON/ESEC KAI-1 1200 Gen 5リアクターは、さまざまな生産アプリケーションで高性能を提供する高性能の先端技術エッチツールです。このツールはワンピース設計であり、強力な可変電力、高度な均一性、およびフラックス配送制御を備えています。高解像度RFジェネレータは、幅広い周波数で動作するため、ユーザーはさまざまなエッチングアプリケーションのプロセス条件をプログラミングすることができます。また、コイルと負荷調整機能が統合されており、追加の制御を提供します。この原子炉は、トランジスタゲートエッチング、フィンエッチング、CPWエッチングなど、さまざまな電子デバイス用途の製造用に設計および設計されています。また、高度な負荷とコイル調整を備えており、プロセスのパフォーマンスを最適化します。さらに、このツールを使用すると、CD、メモリースティック、またはデバイスのタッチスクリーンディスプレイから直接レシピを入力できます。ESEC KAI-1 1200 Gen 5リアクターには、高度な真空管理機能が搭載されています。これは、エッチング処理のための安定した雰囲気を提供するために囲まれた円筒状のスパイラルジオメトリを持っています。これにより、圧力がかかっても、異なるプロセスレベルで一貫した結果をエッチングし続けることができます。このツールの統合された液体噴射システムとRFジェネレータは、エッチングプロセスのパフォーマンスをより大きく制御します。ユーザーは、エッチング化学とフラックスレベルを調整して、より均一な収率を達成することができます。これにより、より迅速で効率的なエッチング生産プロセスが可能になります。さらに、このツールは独自の水冷システムで設計されており、ユーザーに効率を高めることができます。最後に、UNAXIS KAI-1 1200 Gen 5リアクターは、安全性と電力効率を念頭に置いて設計されています。自動シャットオフシステムと帯電防止ボディを装備しています。さらに、このツールのステータスレポート機能により、ユーザーはデバイスの全体的なパフォーマンスと電力供給量を監視および評価することができます。
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