中古 ULVAC CC-400 #9395962 を販売中

ULVAC CC-400は、マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、その他の精密アプリケーションで使用されるさまざまな材料組成の薄膜を迅速かつ正確に作成するために設計された化学蒸着炉です。この原子炉はプロセス室を形成する石英管で構成されており、ユーザーは望ましいプロセス条件のために大気を制御することができます。プロセスチャンバーはベースプレートとベルジャーに囲まれており、プロセス雰囲気を含んでいます。ベースプレートとベルジャーの両方を加熱して、原子炉内の一定の温度を維持します。CC-400は、窒素、炭化水素などの高純度ガスをプロセスガス源として使用し、通常は熱分解プロセスを介して所望の薄膜を作成します。ガスは、マスフロー制御によって、個別または同時に原子炉に導入することができます。オプションのマスフローコントローラとガス混合システムも必要に応じて組み込むことができます。ULVAC CC-400のチャンバーは、機械式およびターボ分子式ポンピングシステムを組み合わせて真空状態に保たれ、ガス組成や原子炉のサイズに応じて幅広いプロセス圧力を実現できます。また、高出力密度のRF誘導加熱システムを使用して、効率的なフィルム成長を実現します。CC-400は0°C-1,000°Cからの動的温度の傾斜および精密な温度調整による温度調整の柔軟性を提供します。精密な制御のために、反応温度を正確に制御するためにPID制御システムを原子炉に組み込むことができます。チャンバーには温度モニターと対応するアラームが内蔵されており、温度監視と安全制御を可能にします。全体的に、ULVAC CC-400は、さまざまなフィルム成長アプリケーションに適した信頼性の高い柔軟なCVDリアクタです。ガスブレンド、温度制御、真空レベル制御などの優れたプロセス制御を提供し、さまざまな動作条件で正確なフィルム成長を可能にします。