中古 ULVAC CC-200Cat #293807369 を販売中

ULVAC CC-200Catは、半導体製造、太陽電池、電子デバイスなど、さまざまな用途の薄膜やナノ材料の成長を正確に制御するために設計された先進的な化学蒸着（CVD）炉です。この原子炉は、アルバックの有名なCCシリーズの一部であり、薄膜蒸着の分野で高い性能と信頼性で知られています。反応炉CC-200Cat触媒化学蒸着（Cat-CVD）法に基づいて動作します。これには、触媒を使用して前駆ガスの分解を促進し、優れた純度と品質の炭素ベース材料の成長を促進することが含まれます。この技術により、厚さ、均一性、組成が制御された高品質の薄膜の成膜が可能となり、精密な材料特性を必要とする研究や産業用途に最適です。ULVAC CC-200Cat炉の主な特徴の1つは、カーボンナノチューブ（CNT）、グラフェン、その他のカーボンベースの薄膜など、さまざまな材料の堆積を可能にする汎用性の高い設計です。このような材料蒸着の柔軟性により、原子炉はエレクトロニクス、エネルギー貯蔵、バイオテクノロジーなどの産業で幅広い用途に適しています。CC-200Catの原子炉室は、CVDプロセスで一般的に使用される高温、真空条件、および腐食性ガスに耐えることができる高品質の材料から構成されています。このチャンバーにはガス流量制御システム、温度コントローラ、圧力レギュレータが装備されており、蒸着プロセス全体にわたって正確で安定したプロセス条件を保証します。ULVAC CC-200Cat炉には、800°Cまでの温度を実現できる高度な加熱装置が搭載されており、高温で高品質の薄膜を成長させることができます。温度制御システムは、基板全体の均一な加熱分布を保証し、均一なフィルムの成長と厚さ制御を促進します。さらに、原子炉CC-200Cat複数の前駆ガスをチャンバーに導入できるマルチガス搬送ユニットを備えており、複雑な薄膜構造や組成物の堆積を可能にしています。また、高純度フィルムの増殖に必要な超高真空レベルを実現できる真空装置を搭載しています。ULVAC CC-200Cat炉の制御ツールは、ガス流量、温度、蒸着時間などの蒸着パラメータを簡単にプログラミングできるグラフィカルインターフェイスを備え、使いやすく直感的です。制御資産のリアルタイム監視およびデータロギング機能は、堆積プロセスに関する貴重なフィードバックをユーザーに提供し、フィルムの成長を正確に制御することができます。要するに、CC-200Cat炉は、薄膜とナノ材料の精密な堆積のために設計された高度で汎用性の高いCVDモデルです。その革新的な設計、堅牢な構造、およびユーザーフレンドリーな制御機器は、幅広い用途のための高性能材料を開発しようとする研究機関や業界にとって理想的な選択肢です。