中古 PLASSYS MPS 900 #293823685 を販売中
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ID: 293823685
PVD Sputtering system
(6) Targets
(3) DC
(3) RF Magnetrons
Mass flow controllers
Computer control
Inter changeable targets
Turbo pump: 100 mm
Load lock and chamber
(6) Magnetrons height adjustable
Pneumatic shutter
Planetary motion: 3 off 1.5 kW, DC and 3 off 1.0 kW
RF Power supplies
Gas lines: Ar, O2 and N2.
PLASSYS MPS 900は、材料研究、薄膜蒸着、表面工学の分野でベンチマークを設定する高度で汎用性の高い精密な多目的原子炉装置です。真空技術の革新的なソリューションのリーディングプロバイダーであるPLASSYSによって設計および製造されたMPS 900リアクターは、最先端のエンジニアリング、卓越した性能、ユーザーフレンドリーな操作を例示します。PLASSYS MPS 900リアクターの中心は、高品質の薄膜の堆積と先端材料の成長に不可欠な超クリーンで汚染のない環境を提供する先進的な真空チャンバーです。このチャンバーには、圧力、温度、ガス組成などのプロセス条件を正確に制御する最先端のポンプおよびガス処理システムが装備されています。MPS 900リアクターの主な特徴の1つは、モジュール設計であり、さまざまな研究および産業アプリケーションの特定の要件を満たすための簡単なカスタマイズと拡張性を可能にします。この原子炉には、マグネトロンスパッタリング、電子ビーム蒸発、熱蒸発など、さまざまな蒸着源を装備することができ、高精度で再現性のある薄膜蒸着技術を幅広く実現します。PLASSYS MPS 900リアクターは、すべてのプロセスパラメータのリアルタイム監視と制御を提供する高度な制御システムも備えています。制御ユニットには、複雑な沈着シーケンスやレシピを簡単にプログラミングできるユーザーフレンドリーなインターフェース、およびプロセス最適化と品質管理のためのデータロギングと分析が装備されています。MPS 900リアクターのもう一つの重要な利点は、幅広い基板サイズと材料との互換性です。この原子炉は、研究用の小さな部品から、生産規模のアプリケーション用の大型産業用ウエハまでの基板に対応できます。また、成膜時の基板温度を精密に制御できる基板加熱機を備えており、望ましいフィルム特性や微細構造を実現するために欠かせません。その汎用性と精度に加えて、PLASSYS MPS 900原子炉は、その信頼性と堅牢性でも知られています。この原子炉は、厳しい運転条件下でも、長期的な安定性と性能を確保する高品質の材料と部品で構築されています。さらに、原子炉はメンテナンスの容易さを念頭に置いて設計されており、すべての重要なコンポーネントに簡単にアクセスして迅速なトラブルシューティングと保守を行うことができます。全体として、MPS 900リアクターは、先進技術、汎用性、精度、信頼性を兼ね備えた最先端のツールであり、現代の材料研究と薄膜蒸着アプリケーションの厳しい要件を満たしています。PLASSYS MPS 900原子炉は、基礎科学研究、プロセス開発、工業生産に使用されるかどうかにかかわらず、最高品質の薄膜および先端材料を達成するための比類のない性能と柔軟性を提供します。
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