中古 PICOSUN R-200 #293831267 を販売中

PICOSUN R-200はprogammable、一般的なバッチ処理の原子層の沈殿（ALD）の原子炉です。材料の薄膜コーティングや成膜を正確に制御することができる強力で反復可能なツールで、材料科学や商業製造の研究開発に最適です。PICOSUN R 200は、ステンレス鋼の原子炉室、真空装置、および反応性化学物質の前処理のための外部コントローラとソフトウェアの包括的なスイートで構成されています。システム全体がコンパクトで使いやすいように設計されています。これは、化学蒸着（CVD）の原理に基づいており、ユーザー制御された正確な反応性ガスの単位への投与によって可能になります。R-200のユーザーコントロール可能な機能により、ユーザーは蒸着パラメータを素早く簡単にカスタマイズし、正確なコーティング層を確保できます。連続またはセミバッチ動作モードを備え、高いスループットと低汚染で薄膜成膜を可能にします。プロセス圧力は調整可能で、数ナノメートルから数百ナノメートルまでの厚さの部品を製造することができます。R 200の汎用性の高い設計により、半導体、化学、オプトエレクトロニクスなどの複数のアプリケーションで使用できます。低温（150°C未満）と常温（250°C以下）の両方に適した機能を備えています。高い発電の暖房機械は速く、安定した温度調整を保障し、統合された化学結合の活発化のメカニズムは優秀な特性の強い、conformalコーティングを作り出します。PICOSUNのR-200は安全および便利のために設計されています。低電圧で停止する非常停止（ESTOP）の2段階の安全ツールと、処理前と処理中の仕様外れを防ぐフェイルセーフバルブアセットを備えています。また、標準のコントロールパネルは、ガス圧力と温度の容易な監視を提供します。PICOSUN R 200は、材料科学の研究開発、および商業製造ニーズのための革新的で信頼できるツールです。薄膜プロセスを精密に制御することで、ユーザーは要求される正確なコンフォーマルコーティングを使用して部品を製造することができます。ユーザーコントロール機能、安全で信頼性の高い操作、マルチアプリケーション互換性により、R-200は精密な材料沈着および薄膜プロセスに最適なソリューションです。