中古 PICOSUN R-200 #293628600 を販売中

PICOSUN R-200
製造業者
PICOSUN
モデル
R-200
ID: 293628600
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor.
PICOSUN R-200は、研究用および中小規模の生産用途向けに設計されたコンパクトで高性能な大気圧プラズマ(APP)原子炉装置です。このシステムは、最大200W出力、ステンレススチールチャンバー、圧力チャンバ、および完全に調整可能なプロセスパラメータを備えた単一の高出力RFソースを備えています。PICOSUN R 200は、優れた性能と温度、ガスの流れ、圧力に対する正確な制御を提供します。R-200は、特許取得済みの冷気圧プラズマ技術を利用して、チャンバー全体に非常に均一なプラズマを作り出すことができ、正確な均一性を持つウェーハなどの基板の成膜とエッチングを可能にします。R 200はOptoelectronicおよびMicroelectrodynamic (MOEMS)の構造の生産のための理想的な解決、およびいろいろな材料の精密な乾燥、エッチングおよび沈殿です。調節可能なプロセスパラメータを備えたPICOSUN R-200は、ポリマーやコーティングの精密硬化にも適しています。PICOSUN R 200は、高度なプロセス監視および制御機能を提供します。ユーザーインターフェイス(UI)は、プロセスの可視化と流量、圧力、プロセス温度の独立した制御を提供します。さらに、R-200は統合されたデータ分析と報告ユニットを備えており、ユーザーはプロセスをリアルタイムで監視および表示し、それに応じてプロセスパラメータを調整することができます。R 200はウェーハの自動積み下ろし装置を提供し、ユーザーはダウンタイムを最小限に抑えてウェーハを迅速かつ正確に積み下ろすことができます。PICOSUN R-200はまた、毎回正確な結果を保証するために、オンボードと外部ウェーハアライメントの両方の機能を提供します。PICOSUN R 200は、高性能な結果を手頃な価格で提供するために設計された効率的で信頼性の高いツールです。その優れたプロセス制御と正確な均一性により、R-200は多種多様な材料の精密加工に最適です。
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