中古 PICOSUN R-200 #293618159 を販売中
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ID: 293618159
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor
Vacuum chamber: Stainless steel vessel with KF connection flanges
(2) RC-200 Reaction chambers: 6-Inlets
SH-200 Sample holder
Substrate holder, 8"
PicoPlasma Inductively coupled remote plasma source
Heated sample stage: Up to 750°C
Mesh cradle MC200 for 3D samples
Trough porous sample holder
Controller
Touch panel PC
Deposition: Oxide (SiO2, Al2O3 and TiO2)
Precursor sources:
(3) Picosolutions
(2) Boosted Picohot 200: Heated source up to 200°C
Boosted Picohot 300: Heated source up to 300°C
(2) Picogas connections for thermal ALD
(2) Picogas connections for PEALD with Ar carrier gas
O3 System: PZ-100 Picozone
PF-200 Diffusion enhancer
Chemical precursors:
Type / Element / Chemical
Picosolution / Al / Trimethylaluminium electronic grade
Picohot200 / Ba / Bis (1,2,4-Tritertiarybutylcyclopentadienyl) Barium
Picohot 200 / Ba / Bis (Tri-isopropylbutylcyclopentadienyl) Barium THD
Picohot200 / Ru / ⁿ4-2,3-Dimethylbutadiene ruthenium tricarbonyl
Picohot200 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picohot300 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picosolution / Ti / Titanium (IV) Chloride
Picohot 200 / Ti / Titanium isopropoxide
Picohot200 / Ti / Titanium methoxide
Substrate loading:
Picoloader
Slit gate valve, 8"
Load lock
Manipulator
N2 Purge assy for load lock purge
Vacuum pump:
EBARA ESA70WD Dry vacuum pump
Flow rate: 420 m³/h
2-Stages pneumatic valve
Afterburner and mechanical foreline particle traps
Power supply: 400 V, 50 Hz, 3-Phase, 6 kW.
PICOSUN™ PICOSUN R-200は、工業生産規模の高い均一性と高いスループット表面コーティング用途向けに設計された先進的なALD（原子層成膜）加工装置です。このシステムは、様々な用途のための反射面、コンフォーマル面、光学コーティング、薄膜などの産業および研究用途の高品質の要件を満たすように設計されています。PICOSUN™ PICOSUN R 200リアクターは、柔軟性と拡張性を可能にするモジュラーアーキテクチャに基づいています。機械は標準的な部品の広い範囲を装備し、独特な顧客の要求を達成するためにプログラムし直すことができます。原子炉の主な構成要素R-200、発電機、リアクタント、反応室、基板ホルダー、排気などです。この発電機は反応室に反応ガスを正確に供給し、コーティング中の高い再現性を確保します。真空排気ツールは、各サイクル後に反応副産物を除去し、迅速なプロセス時間と信頼性の高い結果を可能にします。R 200リアクターはコンパクトでメンテナンスフリーな設計で、設置が容易でメンテナンスも最小限に抑えられています。反応室および基質のホールダーは良質のステンレス鋼から成り、清潔さおよび耐久性を保障するように設計されています。PICOSUN™ PICOSUN R-200炉は、大規模な生産のために設計されており、最大200mmおよび1000 x 1500mmのサイズの基板にコーティングすることができます。最大80％のチャンバ積載と最大59秒のALDサイクルタイムで、高スループット機能を提供します。チャンバーの均一性が± 2％未満、厚さが± 1nmの高均一フィルム成長を提供します。PICOSUN R 200リアクターはセラミックス、金属、複合酸化物、窒化物およびゲルマニドからのフィルムの広い範囲を扱うことができます。それは非常に要求の厳しいコーティング産業のための速く、信頼でき、反復可能なフィルムの成長を提供します。このアセットは、さまざまな研究および産業用途に適しており、すべての表面コーティング用途に優れたフィルム品質、再現性、および性能を提供します。
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