中古 PICOSUN P-300BV #293769705 を販売中
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ID: 293769705
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2021
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor, 6"
Cold source: TMA, H2O
TEMAHF Hot source
Film type: Al2O3, HfO2
2021 vintage.
PICOSUN P-300BVは、業界をリードする超高真空(UHV)原子層成膜(ALD)原子炉です。P-300BVは、世界有数のALD機器プロバイダー、PICOSUNによって設計および製造されています。この装置は、電子ビームをフィルム成長のための電源として使用します。PICOSUN P-300BVに小さい足跡があり、限られた実験室スペースの取付けにとって理想的です。また、高度な光学リアルタイムモニタリングシステムを備えており、プロセスを正確に制御できます。また、プロセス温度が低く、フィルムの均一性に優れています。P-300BVは、超高真空中の複雑な金属酸化物、窒化物、および薄膜スタックの超薄い均一な層の堆積に適しています。PICOSUN P-300BVは、熱やプラズマALDなどの幅広いプロセス技術が可能な高効率機械です。このツールには反応性ガス注入アセットが含まれており、気体前駆体と基板との間の正確な化学反応に基づいて膜を堆積させることができます。P-300BVは、最高のプロセス効率とフィルム品質の均一性を提供するように設計されています。このモデルには、汎用性の高いチャンバー設計と、前駆体材料の制御用量を提供できるインジェクタ装置が装備されています。また、ロボットハンドリングユニットを内蔵しており、正確なサンプル位置決めが可能です。また、高精度のバックサイドビューin-situ光学モニタリングツールを備えており、フィルム品質のリアルタイム測定が可能です。PICOSUN P-300BVはまた、温度、圧力、流量、膜厚などの蒸着プロセスパラメータを監視および制御するために使用できるソフトウェアツールの完全なスイートを提供しています。これらのソフトウェアツールを使用してプロセスパラメータを最適化し、均一で高品質なフィルムを作成できます。最後に、P-300BVは資産の性能を確保するための安全機能の広い範囲の容易な維持および操作のために設計されています。PICOSUN P-300BVは、さまざまなALDプロセスの信頼性と再現性の高いパフォーマンスを提供するように設計されています。高度な機能と堅牢な性能を備えたP-300BVは、あらゆる超高真空ALDプロセスに最適です。
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