中古 NOVELLUS Inova #9399582 を販売中

NOVELLUS INOVAは、半導体材料の蒸着およびエッチング用に設計された原子炉です。ICP （Inductor-Coupled Plasma）技術に基づいており、プラズマ生成に高周波電力を利用しています。この原子炉は、エッチバック、デカム、バリアメタルプロセスなど、さまざまな用途に優れたプロセス均一性を提供します。Inovaは独自のハードウェアおよびソフトウェア機能を採用しており、高度な可変性で一貫したプロセスの均一性を確保しています。NOVELLUS Inovaのハードウェアには、高電圧を使用してプラズマを生成しながら、高周波アークを生成することができる円筒形の高出力ICP駆動インダクタが含まれています。Inovaはまた、プラズマ密度の制御に焦点を当てた線形RF発電機を使用し、エッチバックプロセスの均一性を提供します。さらに、NOVELLUS Inovaには「プラズマドラム」が含まれています。これは、加工中の基板の表面全体に均一なプラズマを作り出す、埋め込み電極を備えたグラファイト材料で作られた革新的なデバイスです。これにより、ソースレベルの非均一性を最小限に抑え、チャージアップを防止できます。さらに、プラズマドラムは、プラズマジェネレーターとダミー電極の間の間隔を最適化することができ、高イオンエネルギーを保証し、より良いプロセス結果をもたらします。ソフトウェアの面では、Inovaはさらなる均一性を高めるためにいくつかの機能を利用しています。これらの機能は、基板表面を監視し、プラズマエネルギー出力を調整してプロセス制御を最適化し、望ましい結果を得るように設計されています。さらに、NOVELLUS InovaはEnduraおよびKinetic Sputter Indexセンシング技術を活用して、ローカルエッチバックパラメータを正確に測定します。リアルタイムおよびオフラインプロセス制御を組み合わせたInovaは、すべてのアプリケーションでサブミクロンの精度と再現性を実現します。結論として、NOVELLUS InovaはICP技術に基づいた強力な原子炉であり、さまざまなアプリケーションにおいて優れたプロセス均一性を提供します。ユニークなハードウェアおよびソフトウェア機能を備えたInovaは、エッチバック、デカム、およびバリアメタルプロセスに比類のない精度、精度、再現性、可変性を提供します。