中古 NOVELLUS Inova #9390633 を販売中

NOVELLUS INOVAは、主に半導体製造プロセスで使用される化学蒸着（CVD）炉です。優れたプロセス均一性、優れた熱安定性、および小さな形状の高いスループット率を提供します。これは、ますます複雑化するナノスケールの集積回路設計の処理を可能にするように特別に設計されています。イノバ原子炉ビームは、ウエハーマウントプレート、RFトーチ、トーチアンテナ、ガス流量マニホールドで構成されています。ウエハーマウントプレートは、ウエハを原子炉室に取り付けるのに役立ち、電力接続と必要なガスを供給するのに役立ちます。RFトーチはウェーハを加熱し、蒸着プロセス用のプラズマを作成し、ガス流量マニホールドからリアクタントガスをチャンバーに注入します。トーチアンテナは、堆積プロセスのためのプラズマ場を開始し、維持するために高周波の電波を撮影します。ガス流マニホールドは、ソースから反応ガスを収集し、それらを反応チャンバーに転用します。NOVELLUS INOVAのユニークなデザインは、高い蒸着速度と優れたプロセス均一性を可能にします。高い沈着率と均一性の向上は、単にプロセス工程が少なく生産性が高い高品質のデバイスを製造できることを意味します。プラズマ密度制御とプラズマパルス周波数変調という2つの大きな画期的な成膜形態により、Inovaは従来の方法とより高いプロセス温度で高品質のフィルムを堆積することができます。また、分散プロセス制御技術を含むハイエンドエレクトロニクスも組み込まれており、ウェーハをより迅速かつ正確に処理することができます。さらに、クローズドループコントローラは、蒸着プロセスのリアルタイム校正と制御を可能にし、CVDによって生成されたすべての層が正確に形成され、プロセスが一貫していることを保証します。NOVELLUS Inovaリアクターシステムは、製品の品質向上やサイクルタイムの短縮など、多くの利点があり、デバイスメーカーにとって魅力的なソリューションです。Inovaは効率的で信頼性の高い処理システムであり、明日の半導体産業への道を切り開くのに役立っています。