中古 NOVELLUS Inova #9384622 を販売中

NOVELLUS Inova
製造業者
NOVELLUS
モデル
Inova
ID: 9384622
PVD System Process: Ta barrier / Cu seed deposition.
NOVELLUS Inovaは、半導体用に高品質の薄膜蒸着を容易にするように設計された蒸着炉です。Inovaは、高いアスペクト比、高精度、および優れたフラックス制御を組み合わせ、最高品質のフィルムを最も効率的に製造します。この原子炉はデュアルチャンバー構成で設計されており、ユーザーは5nmの薄膜を堆積させることができます。NOVELLUS INOVAには、堆積中に粒子や破片が蓄積するのを防ぐ独自の静電チャックがあります。これにより、汚染のリスクを低減し、オンウェーハの均一性を向上させます。Inovaはまた、ユニークな2番目のチャンバー設計を採用しています。これにより、異なる温度および圧力レベルでの正確なフラックス制御が可能になり、ウェーハ全体で優れた均一性を生み出し、堆積膜の性能を向上させます。また、プラズマベースの蒸着技術により、蒸着速度を正確に制御し、フィルムの性能の信頼性を高めます。NOVELLUS Inovaは、熱化学蒸着(TCVD)、原子層蒸着(ALD)、物理蒸着(PVD)など、さまざまな蒸着プロセスで使用できます。さらに、Inovaには、強力で汎用性の高い堆積ツールになる他の多くの機能があります。高度な制御ソフトウェアにより、プロセス変数を正確かつ再現可能に制御できます。また、NOVELLUS Inovaは、ウェーハ全体に均一な蒸着速度と均一性をもたらす調整可能なベローズシステムを備えています。原子炉はまた、堆積膜の完全性を継続的にチェックする高度な光学モニタリングシステムを持っています。全体として、Inovaは優れた性能と歩留まりを提供する高度な蒸着炉です。その二重部屋の設計は信頼でき、一貫した沈殿を提供し、調節可能なベローズシステムは均等性および正確さを保障します。NOVELLUS Inovaは、高品質の薄膜成膜を提供するために世界中の半導体産業から信頼されている強力なツールです。
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