中古 NOVELLUS CONCEPT One #9144774 を販売中
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NOVELLUS CONCEPT ONEは、半導体製造における高度な成膜およびエッチングプロセス用に設計された高性能シングルウェーハ炉です。NOVELLUS CONCEPT ONEは、新しいシングルウェーハアーキテクチャを使用して、ウェーハの対称性と均一性を最適化した優れた制御と歩留まりを提供します。CONCEPT ONEは、粒子数の削減を目的として設計されており、高度なプロセス監視および制御機能を備えています。モジュール式のシングルウエハ設計で、加熱基板により均一性を最大限に高め、圧力と流量を正確に制御する高度なガス流量装置を備えています。CONCEPT ONEは、クロス汚染を最小限に抑えるために、4クアドラントバキュームチャンバー設計と各プロセスごとに独立したチャンバーを備えています。また、4つの独立したキャリアを備えたユニークなトランスポート機構を備えており、ウェーハのスループットと均一性を向上させます。また、NOVELLUS CONCEPT ONEには独自のモーターシステムと制御ボードが搭載されており、温度・圧力制御を強化しています。NOVELLUS CONCEPT ONEは、導電性フィルムと非導電性フィルムの両方を含む幅広い基板と材料をサポートしています。調節可能な水冷セラミックフレームと高度な光学顕微鏡を備え、正確なアライメントを保証します。このユニットには、再現性と均一性を確保するための自動基板表面検査ステーションも含まれています。エッチングのために、CONCEPT Oneは、運用コストの削減、歩留まりの改善、および優れたウェーハの均一性のために設計されています。この原子炉は、プラズマ損傷を低減し、ステップカバレッジを向上させるように設計された新しい誘導結合プラズマ源を備えています。さらに、原子炉は、湿った化学物質や乾燥化学物質など、さまざまなエッチング化学物質をサポートしています。CONCEPT ONEには、プロセス全体をリアルタイムで把握できる高度なプロセスコントロールマシンも搭載されています。この機能により、ユーザーはプロセスパラメータを監視し、プロセス条件を把握し、プロセスパラメータを最適化することができます。この機能により、キャリブレーションとプロセスのセットアップ時間を短縮することもできます。NOVELLUS CONCEPT ONEは、最も要求の厳しいアプリケーション向けに設計された、高度で高性能なシングルウェーハリアクターです。新しい設計と高度な機能を備えており、成膜およびエッチング処理において優れた性能と均一性を実現します。NOVELLUS CONCEPT ONEは、半導体やその他の先端技術アプリケーションに最適です。
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