中古 NOVELLUS CONCEPT One-150 #9248601 を販売中

NOVELLUS CONCEPT One-150は、研究開発に適したシングルチャンバー型のバッチ型CVD/ALD （Chemical Vapor Deposition/Atomic Layer Deposition）リアクターです。One-150はコンパクトな設計で、手動処理システムと自動クラスタツールの両方に統合できます。原子炉室にはステンレス鋼SUS316並べられ、追加の軽量アルミ合金蓋を提供します。チャンバー寸法は150mm（Ø）×150mmの深さで、直径6インチ（200mm）または直径4インチ（100mm）の12ウェハで最大30ウェハを保持できます。密閉されたRF加熱装置を備えており、大気圧までの均一な温度を下げることができます。酸化剤、還元剤、窒化物、フッ化物などの幅広いガスをサポートする燃料ガス流量システムが利用可能であり、特殊なチャンバーは非常に反応性の高い材料を処理することができます。この原子炉には、1バッチにつき最大6個のウェーハを保持できる低負荷の静電チャック（ESC）が搭載されています。ESCは簡単に自動化され、手動またはクラスタツールに統合するために構成することができます。ソースは、同じ原子炉からソースを派遣できるように設計されており、複数の前駆体を可能にしています。制御ユニットには、ESCグリッド電圧の微調整と、すべての重要なパラメータのリアルタイム表示が含まれています。高圧ガス搬送機により圧力の急変が可能で、短時間の加工が可能です。この原子炉はまた、制御可能な蒸着速度と温度、および調整可能なトータルプロセス時間を提供します。このOne-150により、高度なマルチテクノロジー処理機能が可能になり、アニーリング、酸化、蒸着、エッチングを同時に実行できます。また、大気およびインライン蒸着、エッチング、酸化、エッチング、蒸着、ナノテクノロジーなどのより複雑なプロセスもサポートできます。さらに、その設計はクラスタシステムへの統合も容易になります。要約すると、NOVELLUS CONCEPT ONE 150は効率的でコンパクトなCVD/ALDリアクターで、高度なマルチテクノロジー処理機能とクラスタシステムとの容易な統合を備えています。蒸着速度と温度の粒状制御、信頼性の高いRF加熱ツール、および精密燃料ガス流量設計により、この資産は研究開発および本格的なデバイス製造プロセスの両方に適しています。