中古 NOVELLUS Concept 3 Speed #9364308 を販売中

NOVELLUS Concept 3 Speedは、処理能力を高めるために設計された非常に革新的な化学蒸着（CVD）原子炉です。これは、集積回路製造と半導体デバイス製造のための画期的なツールです。Concept 3 Speedは、シングルウェーハの回転と静止カソード設計を採用し、優れた均一性と蒸着速度を提供します。その高度で柔軟なクラスタツールアーキテクチャは、すべてのNOVELLUSシステムとの容易な統合と最大限の共存を提供します。このCVDリアクターにはアップグレード可能なオートメーションモジュールが付属しており、高いレベルのスループプットと優れた品質の処理結果を提供します。NOVELLUS Concept 3 Speedは、生産性を向上させるための高流量ガスパネルを備えています。それは最適な温度、圧力、およびガスの流れの分散制御を提供する事前混合の部屋と高められる2つの調節可能な傾けられたシャワー・ヘッドを特色にします。この技術は、インラインまたはクロスフローガスミックスで動作でき、優れた材料の均一性を提供します。Concept 3 Speedは、統合された熱源でプロセスの安定性を向上させます。この熱源装置（HSS）は、均一な熱分布のための高度な三層拡散板を備えており、最適な材料コストを可能にします。NOVELLUS Concept 3 Speedの独自のセルフクリーニングプッシャープレートは、粒子の蓄積の可能性を排除し、一貫したプロセスフローを提供します。さらに、自動オフラインプロセス認定により、コーティングの迅速なチューニングと最適化されたフィルム/基板インタフェース特性が可能になります。Concept 3 Speedの性能は、高度なマルチポジションウェーハ操作システム（PWMS）によって強化されています。このユニットは、ウェーハの継ぎ目とリングのローディングをサポートし、ウェーハと前駆体の処理に柔軟性を提供します。さらに、PWMSは基板処理時間を短縮することで、機械の速度を向上させます。NOVELLUS Concept 3 Speedは、製品の耐久性、プロセスの柔軟性、および高い歩留まり生産性を向上させ、比類のない機能を提供します。これは、半導体デバイスメーカー向けの費用対効果の高い信頼性の高いCVD炉ソリューションです。