中古 NOVELLUS Concept 3 Speed #293808529 を販売中
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ID: 293808529
ウェーハサイズ: 12"
HDP CVD System, 12"
(12) Cartons:
EFEM, TM
(3) Process modules
Chase monitor
Front monitor
AC Rack
RF Rack
NTU Box
NPP Rack
Transformer
Cables.
NOVELLUS Concept 3 Speedは、先進的な半導体製造のために設計された最先端の化学蒸着（CVD）炉です。装置は金属、誘電体、グラフェンおよび他の多くの機能フィルムを沈殿させることができる非常に高いフィルム純度および装置収率を作り出すように設計されています。Concept 3 Speedは、直径13インチのチャンバーサイズで最大30 μ m/minの高い加速速度で動作するコンパクトで高速な原子炉心を備えています。この高速は、制御された均一な厚さで超薄膜の堆積を容易にします。また、デュアルエアフローユニット（DAFS）を搭載しており、均質なプロセスパラメータと低熱ボトルネックを維持し、高度なウエハチャックにより正確なウエハ制御を実現しています。NOVELLUS Concept 3 Speedは、MFCベースのガス流量制御を使用して、プロセスの重要な入力と出力を管理し、チャンバー内の定常状態を維持し、新しいフィルムの開発中にラボスケールのテストを可能にします。また、消費電力を削減するために最適化されており、エネルギーコストを低く抑えることができます。プロセス制御ツールは高度な自動化アルゴリズムに基づいており、正確なプロセス制御と高い信頼性を提供します。これにはHMI技術が含まれており、オペレータは簡単にプロセスをリアルタイムで監視できます。このアセットは、さまざまなウエハサイズに対応しており、3インチのバッチ処理に適応する可能性があり、生産環境で最大限の柔軟性と拡張性を提供します。Concept 3 Speedは、デバイス構造に適した高品質フィルムにより、ハイエンドのCMOSおよびMEMSデバイスの製造に適しています。さらに、高度な自動化、拡張性、エネルギー効率の向上により、メーカーや研究者にとっても信頼できる選択肢です。NOVELLUS Concept 3 Speedは、速度、品質、精度を考慮して設計されています。
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