中古 NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9170857 を販売中

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ID: 9170857
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
CVD Systems, 12" (3) chambers 2004 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Speed NEXTは、先進的な薄膜蒸着用途向けに設計された原子炉です。この原子炉は、薄膜の成長とコンフォーマルコーティングを正確に制御できる高度な技術を備えています。コンセプト3 Speed NEXTリアクターは、さまざまなニーズと柔軟な構成に対応するために、3つの独立した堆積ゾーンを提供します。原子炉に搭載されている3つの堆積ゾーンのうち最初のものは、主要な堆積ゾーンである。それはカスタマイズ可能な金属の沈殿の調理法およびconformalコーティングが付いている低い動力を与えられた地帯です。一次蒸着ゾーンには、膜厚の均一性とステップカバレッジを最適化しながら、精密な制御を可能にする独自の工程ステップが組み合わされています。ピコ/ナノスケーリング成膜が可能で、バリア層や接着層、ソース層、複雑な金属構造を堆積/エッチングすることができます。2番目の蒸着ゾーンである表面処理ゾーンは、膜の成長特性を高めるためにリアルタイムの表面修飾と接着層を提供します。このエリアには、反応性イオンエッチング、完全な表面処理、選択的な表面処理、および成膜前の表面処理があります。コンフォーマルコーティング特性を維持しながら、優れた結果を得るように設計されています。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXTで紹介された3番目と最後の堆積ゾーンは、高い堆積ゾーンです。この蒸着ゾーンは、最も要求の厳しい蒸着要件を可能にする、非常に必要な高い蒸着速度を提供します。高い沈着率の地帯は厚いフィルムを沈殿させ、一貫した、信頼できる均等性およびステップ適用範囲を提供するように設計されています。コンセプト3 Speed NEXTリアクターは、自動車部品から半導体、フラットパネルディスプレイ、オプトエレクトロニクス、MEMS、医療、航空宇宙、エネルギーなど、さまざまな薄膜蒸着アプリケーションに対応できます。この原子炉は、スループットとパフォーマンスを最大化する優れたプロセス制御と均一性を備えた統合薄膜アーキテクチャを提供します。これは、高度な薄膜蒸着アプリケーションをお探しの方に最適なソリューションです。
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