中古 NOVELLUS Concept 3 Speed Max #9281511 を販売中

NOVELLUS Concept 3 Speed Maxは、先進的な半導体デバイス製造プロセス向けに設計された次世代の先進プラズマ炉です。高度な技術を使用して、高度なデバイス製造の厳しい要件を満たすために、高い均一性と高いスループット機能を提供します。Concept 3 Speed Maxは、低圧プラズマ蒸着（LPD）技術の最新技術を活用して、高いプロセス歩留まりと再現性を実現します。NOVELLUS Concept 3 Speed Maxの高度な設計とエンジニアリングにより、基板全体の堆積膜の均一性が向上します。Concept 3 Speed Maxは、蒸着プロセスを制御するために可変イオン化ソース技術を利用し、より高い均一性と効率的なプロセスを可能にします。さらに、NOVELLUS Concept 3 Speed Maxには高速プラズマジェネレータが組み込まれており、より高いスループットでより効率的なプロセスを実現します。また、この設計により、シャドーイングを最小限に抑えるために、さまざまな基板の高さと表面トポロジに正確にスキャンして調整することができます。高速スキャナにより、蒸着フェーズ中の基板全体の高速スキャンが可能になり、スループットと均一性が向上します。最終的にはデバイスの生産率が向上します。さらに、Concept 3 Speed Maxのガス分配システムは、蒸着プロセスを正確に制御し、基板全体にわたって均一な表面特性を提供します。NOVELLUS Concept 3 Speed Maxの高度なin-situモニタリング機能により、正確なプロセス制御がさらに保証されます。高度なモニタリングユニットは、蒸着プロセス全体で基板表面を観察するために、統合された顕微鏡を備えたオンボードカメラを内蔵しています。このモニタリングマシンは、詳細なプロセス情報と、製造段階でのプロセスの問題を検出し、プロセスの変動を最小限に抑え、プロセス歩留まりを最適化する機能を提供します。Concept 3 Speed Maxは、基板プローブ配置を強化するための自動ウェハグリッパー技術を備えた堅牢な洗浄および基板準備プロセスも内蔵しています。このマルチステーション適応型ロボットは、正確なプローブ配置を保証し、一貫したウェーハのシンギュレーションを保証します。高度なプロセス制御には、化学レシピの包括的なライブラリと、基板から基板への変動を低減するためのオンボードのリアルタイム補正と評価が含まれています。さらに、高度なプロセス制御により、ウェーハ全体にわたって均一な膜厚が保証されます。NOVELLUS Concept 3 Speed Maxは、プロセスの歩留まりと均一性を向上させながら、スループット能力を向上させるために設計された最先端のプラズマ原子炉です。可変イオン化ソース、高速プラズマ発生器、高度な現場監視、高度なプロセス制御、自動化されたウェーハグリッパー技術など、このツールで使用される高度な技術は、高度なデバイス製造に最適なソリューションを提供します。