中古 NOVELLUS Concept 3 Altus #293767145 を販売中
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ID: 293767145
ヴィンテージ: 2007
WCVD System
Chamber position / Gases
Unit 1 / WF6, AR, NF3, SIH4, H2, B2H6, N
Unit 2 / WF6, AR, NF3, SIH4, H2, B2H6, N2
2007 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Altusは、電波周波数プラズマを使用して、炭化ケイ素や酸化アルミニウムなどのコンフォーマル薄膜材料を堆積させるPECVD炉です。この原子炉は、薄膜処理、研磨、酸化、配線などの要求の厳しいコンフォーマルおよび方向性の高いプロセスモジュール用に特別に設計されています。コンセプト3 Altusは、ウェーハの負荷容量を増大させた改良された設計で、粒子発生を最小限に抑えた優れた均一性を提供します。このユニットは、100mm x 200mmの基板上に構築されており、高度なイオン源を備えており、高い沈着率と低い応力で高速なプラズマを生成します。高度なビーム技術は、優れたフィルム均一性を持つコンフォーマルコーティングを生成し、処理されるデバイスが均一に覆われていることを保証します。このイオン源は低温で動作することができ、エネルギー消費を削減し、ユニットの全体的な寿命を改善するのに役立ちます。NOVELLUS Concept 3 Altusは、性能を向上させる独自のデュアル変位設計を採用しています。この装置は、上部チャンバーと下部チャンバーを備えており、デュアルハーネスブリッジで接続されています。この設計により、積載能力が向上し、大型基板のカバレッジが向上し、より高い蒸着率と蒸着均一性が得られます。原子炉はまた、基板上の均一で均質なガスの流れを生成する洗練された両面ガス導入システムを持っています。基板の上下に独立したガスゲートを備え、低い沈着応力でより高い沈着率を実現します。コンセプト3 Altusには、パフォーマンスを向上させる高度なオートメーション機能も含まれています。ユーザーが便利にマシンのパラメータを監視し、モニター画面からコマンドを開始することができるユーザーフレンドリーなモニタパネルが含まれています。このツールはまた、他の原子炉システムと容易に統合することができ、生産プロセスを簡素化し、運用コストを削減するのに役立ちます。全体として、NOVELLUS Concept 3 Altusは、広範囲のコンフォーマル薄膜と堆積物を生成することができる強力なPECVD原子炉です。それは洗練された設計、優秀な均等性、改善された積載量および理性的なオートメーションを自慢します。これらの機能により、Concept 3 Altusは信頼性が高く、効率的で費用対効果の高いPECVDリアクターをお探しのお客様に理想的な選択肢となります。
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