中古 NOVELLUS Concept 3 Altus #293759372 を販売中
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ID: 293759372
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
WCVD System, 12"
(2) Chambers
PNL With Hard Disk Drive (HDD)
Remote Plasma Sources (RPS)
Gas box
Chamber complect
BROOKS Robot
(3) Load ports
Power box
2004 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Altusは、半導体製造業で先進的なプロセス用途に使用される最先端の原子炉です。この汎用性の高いツールは、高品質の半導体デバイスの製造に不可欠な蒸着およびエッチング工程において精度と性能を提供するように設計されています。コンセプト3アルタス炉の中心には、優れたプロセス制御と均一性を可能にする革新的なチャンバー設計があります。このチャンバーは、粒子発生を最小限に抑え、ガスフローのダイナミクスを最適化するために設計されており、ウェーハ表面における一貫した成膜とエッチングを保証します。この制御レベルは、次世代半導体デバイスの厳しい要件を満たすために不可欠であり、膜厚や組成のわずかな変化がデバイスの性能と歩留まりに影響を与える可能性があります。リアクターには、リアルタイムウェハ温度検出、ガス流量制御、圧力監視などの高度なプロセス監視および制御機能が装備されています。これらの機能により、プロセスパラメータを精密に変調し、再現性の高い望ましいフィルム特性を実現します。さらに、この原子炉は幅広いプロセス化学に対応できるように設計されており、半導体メーカーは、特定のデバイス要件を満たすために蒸着およびエッチングプロセスを調整することができます。NOVELLUS Concept 3 Altusリアクターの主な特徴の1つは、高速処理能力です。この原子炉には、最先端のプラズマ源と加熱システムが装備されており、フィルムの品質を損なうことなく、迅速な成膜とエッチングを可能にします。この高スループットは、大量の半導体製造の要求に応え、費用対効果の高い生産を確保するために不可欠です。性能に加えて、Concept 3 Altusリアクターは使いやすさを念頭に置いて設計されています。このリアクターはユーザーフレンドリーなインターフェースを備えており、オペレータはプロセスレシピを簡単にプログラムおよび監視し、診断およびメンテナンス情報にアクセスできます。さらに、リアクターには遠隔監視機能が搭載されており、オフサイトの専門家によるリアルタイムのプロセス最適化とトラブルシューティングが可能です。NOVELLUS Concept 3 Altusリアクターも信頼性と稼働時間を念頭に置いて構築されています。この原子炉は、半導体処理時に発生する過酷な化学環境や高温に耐えられる堅牢な材料と部品で設計されています。さらに、原子炉には、オペレータを保護し、事故を防ぐための高度な安全機能が装備されています。全体として、Concept 3 Altusリアクターは、半導体の製造における性能と汎用性のための新しい標準を設定します。先進的なチャンバー設計、高速処理能力、ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、最先端の半導体デバイスの製造における幅広い成膜およびエッチング用途に適しています。その信頼性と使いやすさは、効率と精度で高品質な結果を達成しようとする半導体メーカーにとって貴重なツールです。
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