中古 NOVELLUS Concept 3 Altus Max #293802355 を販売中

NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactorは、最先端の半導体デバイス製造プロセス用に設計された高効率のプロセスツールです。高性能集積回路の製造に使用されます。コンセプト3 Altus Max Reactorは、高度な統合プロセスオートメーションと制御によって生産性とスループットを最大化することで、優れた生産量を提供する、ユニークなツールです。NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactorは、化学蒸着（CVD）プロセスを使用して、均一な膜厚をナノメートルレベルに堆積させます。原子炉設計では、高速パルス処理、ホットウォール処理、低い浸透技術を採用し、プロセス時間を短縮し、不要なウェーハ処理を排除しています。さらに、ダウンタイムを最小限に抑え、高品質のデバイスを再現できるようにします。Concept 3 Altus Max Reactorにはサイドウォール高さが大きく可変されており、大型基板と小型基板の同時使用が可能です。サイドウォールの高さを可変することで、プラズマの生産量を増やし、成膜速度を向上させることができます。原子炉建築はまた、調整可能なソース、調整可能な圧力、および調整可能な温度で優れたプロセス制御を提供します。プロセスはまたあらゆる操作の前後のパージによって不純物から保護されます。NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactorの統合されたプロセスオートメーションと制御により、包括的なオンラインデータロギング、リアルタイムフィードバック、自動修正など、幅広い生産オプションが可能になります。予測分析と自動サイクルマッピングにより、高度なプロセス制御が強化されます。これらはすべて、ウェーハ処理の高速化、エネルギーコストの削減、生産時間の最小化を実現します。Concept 3 Altus Max Reactorは、200〜500 mmのウェーハを高速で処理できる高度なテクノロジーノード向けに設計されており、一貫した反復可能なプロセス結果を提供します。このツールは、シリケートや酸化物などの複数の材料を実行することができ、フィルム蒸着を改善するための統合されたRFパワー制御を提供します。結論として、高いスループット、優れたプロセスオートメーションと制御、柔軟性を備えたNOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactorは、最先端の半導体プロセス製造に最適です。