中古 NOVELLUS CONCEPT 2 #9408537 を販売中

NOVELLUS CONCEPT 2は、薄膜蒸着プロセスの大量製造用に設計された化学蒸着（CVD）炉です。半導体業界の多層薄膜アプリケーションに特に適しています。CONCEPT 2は、独自の機能を備えたダイナミックな加工技術を駆使し、業界トップクラスのパフォーマンスを実現しています。NOVELLUS CONCEPT 2の構造は、腐食性のある「ソリューション」が並んでおり、効率的で費用対効果の高い加工を実現しています。原子炉は独立した加熱ゾーンを使用して、材料の効率的で再現性のある処理を実現します。各ゾーンには独立した加熱および冷却機能があり、正確なプロセス制御を提供します。CONCEPT 2には、成膜プロセスのリアルタイム制御を可能にするクローズドループ・フィードバック装置も搭載しています。このシステムは、チャンバー内の温度と圧力を正確に制御することができ、in situ deposition rate monitorを使用することで、蒸着速度を正確に制御することができます。NOVELLUS CONCEPT 2リアクターは、清潔さを維持し、チャンバー表面の汚染を防ぐために最適なチャンバー保護を保証します。2つの絶縁弁、2つのOリング、 2つのフィルム絶縁シールを備えており、外部の大気からチャンバを絶縁します。また、運転中に生成されるほこりや粒子のレベルを低減するための特別なダスト放出ユニットもあります。CONCEPT 2は、再現性と信頼性の高い結果を得るための高精度なプロセス条件を提供します。機械の圧力、温度、およびその他のパラメータを自動的に監視し、蒸着精度と歩留まりの正確な条件を保証します。これは、蒸着速度を均一かつ正確に制御するためのマルチゾーンアーキテクチャを使用しています。このツールはまた、リアルタイムデータフィードバックを備えており、他のCVDリアクタ技術よりもはるかに正確な制御を可能にします。さらに、NOVELLUS CONCEPT 2は、メンテナンスを最小限に抑えて資産の経済的かつ効率的な運用を確保するための簡単なオペレータ機能を備えています。これには、自動ウェハローディングとアンロード、温度および圧力制御システム、および内蔵のsituレートモニターが含まれます。さらに、CONCEPT 2はいくつかの異なるソース技術と互換性があり、非常に汎用性の高い機能を可能にします。全体として、NOVELLUS CONCEPT 2リアクターは、正確で反復可能で信頼性の高い薄膜蒸着プロセスに最適です。その動的加工技術、優れたチャンバー保護、独立した加熱ゾーン、およびリアルタイムフィードバックシステムは、半導体業界の大容量アプリケーションに最適です。