中古 NOVELLUS CONCEPT 2 #9315487 を販売中
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ID: 9315487
CVD System, 8"
Mainframe
Wafer type: Notch
System and module controller: MC1
SSD
Index robot: Type II
Magnetron 7 Transfer robot
Endpoint detector
Sequel chamber:
Sequel express
DLCM: S0862
Process type: Nitride
IOC Version: 4.2
Gas box configurations:
Gas line / Gas flow (SCCM) / MFC Make / MFC Model
SiH4 / 750 / HORIBA / Z512
N2 / 5000 / UNIT / UFC1661
SiH4 / 350 / HORIBA / Z512
He / 10000 / UNIT / UFC1661
NH3 / 10000 / UNIT / UFC1661
He (Aux) / 1000 / UNIT / UFC1661
NF3 / 5000 / UNIT / UFC1661
N2O / 20000 / UNIT / UFC1661
N2 / 12000 / UNIT / UFC1661
CO2 / 20000 / UNIT / UFC1661
2000 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2リアクターは、高密度プラズマで精密なエッチング機能を提供するために設計された環境に優しい反応イオンエッチング装置です。反応ガスを加熱してプラズマを構成するガスをイオン化し、ガスを金属表面に向けて加速させる。反応性イオンが金属に当たると、個々のイオンのエネルギーは表面から金属原子を除去するために費やされます。また、エッチングプロセスを高度に制御し、均一な基板を作成することができます。これがCONCEPT 2ソリューションのアプローチです。NOVELLUS CONCEPT 2システムは、生産性の向上、ランタイムの短縮、プロセス制御の向上を実現します。超薄膜から厚い構造まで、あらゆる厚さの層を扱うことができます。流量は、必要なエッチング構造を作成するために微調整inorderすることができます。このユニットには、環境を保護し、動作中に最高レベルの清潔さを確保するように設計されたいくつかの機能が含まれています。これには、任意の粒子をフィルタリングするための空気リサイクルマシン、外部環境にリアクタントが漏れるのを防ぐためのフィードポイントの2番目の壁、生産エリアからの反応を指示する専用の排気ラインが含まれます。CONCEPT 2ツールは非常に効率的に設計されており、他のRIEシステムよりも最大30%少ない処理ステップを提供します。電源やコントローラを含むアセット全体がアプリケーションに合わせてサイズ化されているため、ユーザーは必要に応じてセットアップをカスタマイズできます。このモデルには、ユーザーが理想的な結果を得るために電源設定を調整できるオプションの電流チューニング機能も含まれています。これは、時間を節約し、機器のパフォーマンスを向上させるので、便利な機能です。NOVELLUS CONCEPT 2には、制御機能のフルセットが付属しています。これにより、エッチング速度、温度、ガス流量、圧力などのプロセスパラメータを正確に制御できます。さらに、システムはグラフィカルユーザーインターフェイスを介してリモートで監視および調整することができます。これにより、所望のエッチング結果を一貫した方法で達成できるようになります。CONCEPT 2は、精度と高度な制御機能を備えた高性能エッチングユニットです。NOVELLUS CONCEPT 2は、加工工程を大幅に削減し、堅牢な安全プロトコルにより、薄膜エッチングから高度なデバイス製造まで、さまざまなアプリケーションに適しています。
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