中古 NOVELLUS CONCEPT 2 #9212169 を販売中

NOVELLUS CONCEPT 2は、薄膜集積回路の大量生産用に設計された中規模の低圧化学蒸着（CVD）装置です。これは、酸化物と窒化物の堆積のための単一のチャンバープロセスを使用しており、低い欠陥率で高いスループットを提供します。CONCEPT 2は、基板表面全体で並外れた均一性を提供する10の蒸着源で優れた性能を提供します。NOVELLUS CONCEPT 2は、酸化物と窒化物蒸着のために特別に設計された制御圧力を備えた低圧リアクタント流量で構築されています。このチャンバーは、閉じた円筒形の設計と、マルチガスシステムを利用した2ゾーンの高速熱処理を備えています。2種類のガスマニホールドを内蔵しており、より高いトータルガスフローで均一性を高め、さらにスループットを高めるためのオプションの内部バリア層を備えています。正確に制御された放物線RFエネルギー場が反応性ガスをイオン化するために使用される。これにより、ウェーハ表面で反応が起こり、最終的に薄膜層が形成されます。CONCEPT 2には、高効率で多成分のガス供給ユニットを搭載しています。この機械は制御された反力剤の圧力を維持し、優秀な均等性を提供します。NOVELLUS CONCEPT 2は、安定した再現性のある圧力パターンと正確なガス流量を確保するために、自己整列した横方向の質量流量計を使用しています。さらに、チャンバーには、リアクタントガスごとに個別のマスフローコントローラとマニホールド圧力コントローラを使用しています。これにより、蒸着プロセス全体にわたって高度な制御性と精密ガス供給を確保することができます。CONCEPT 2はまた、主要なスタンドアロンCVDシステムと同じ基板加熱ツールを提供しています。このアセットにより、さまざまな基板タイプの優れた温度均一性と再現性が保証されます。加熱モデルも調整可能で、ユーザーは特定の基板およびプロセス要件に合わせて温度プロファイルを調整できます。これらの高度な機能の組み合わせは、プロセス制御の全体的な改善と、スループットとエッチング品質の向上につながります。NOVELLUS CONCEPT 2は、高度なシャワーヘッド技術を駆使し、プロセス性能をさらに向上させます。この技術は、各シャワーヘッドポートに独立したゲートバルブを使用することでスループットと均一性を向上させ、反応性ガスの分布を改善し、不要な副産物の蓄積を防ぎます。シャワーヘッド技術を追加することで、基板表面全体のプロセスウィンドウと均一性が大幅に向上します。要するに、CONCEPT 2は、大量かつ優れた基板均一性を実現するために設計された低圧CVD装置です。薄膜集積回路の大規模処理に最適です。マルチガス配送、放物線RFエネルギーフィールド、シャワーヘッド技術などのシステムの高度な機能により、しばしば困難なCVD環境で強力で信頼性の高いツールとなります。