中古 NOVELLUS CONCEPT 2 #9004475 を販売中
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ID: 9004475
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2007
CVD system, 8"
Dual-Speed-S
SiO2 Process chamber
Gas configuration:
1 Ar 500 sccm
2 O2 500 sccm
3 NF3 1 slm
4 SiH4 200 sccm
5 He 500 sccm
8 H2 2 slm
MFC:
Aera/FC-7800CD
NC, Metal Seals
1/4”MVCR, 9pin
D-Type Conn
10μin Ra
(2) SPEED-S Module (STI):
Module Controller
Reactor Chamber
Gas Box
Exhaust System
Pressure Measurement System
LPB (Local Power Box)
RF Supply & Output System
APC (Auto Pressure Controller)
Vent N2 Supply System
He Supply System for ESC
Temperature Measurement (NTM3)
Cooling Water Supply System
Compressed Air Supply System
DLCM-X Module (Hi/Low Type) with SMIF:
Standard SMIF
TM Aligner
System Controller (UI I/F)
Module Controller
(2) Load-lock Chambers
Transfer Chamber
Transfer Robot (Indexer for L/L x 2, Mag for TM x1)
Slit Valve
Turbo Pump (TMH260)
Purge Gas, Vent Gas Supply System
Cooling Water Supply System
Compressed Air Supply System
Exhaust System
Pressure Measurement System
Cooling Station
LPB (Local Power Box)
APC (Auto Pressure Controller)
RF Generator
HF Generator: (2) RFG 5500/AE
LF Generator: CLF-5000/COMDEL
Module single service drop, MSSD
Δ-Y Transformer (Type 3-628941, 100KVA)
UPS (“NemieLambda”PS-3210, “Hakkosha” 3WTC-10K)
(2) SMIF Robots (Asyst)
Missing / defects:
Ch-1: HF generator failure, No HF Matching, No Coaxial Cable
Ch-2: Isolation valve failure (100mTorr)
2000 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2リアクターは、生産の品質と効率を向上させるために設計された先進的な半導体製造装置です。ウエハにポリシリコンなどの薄膜を堆積させるために使用される化学蒸着（CVD）装置です。この蒸着プロセスは、マイクロプロセッサなどの集積回路デバイスの生産に不可欠なステップです。CONCEPT 2はNOVELLUS Systemsが開発した精密設計ツールです。高解像度の均一なシリコン蒸着プロセスとマルチプロセスチャンバーエッチング機能を備えています。最先端のプラズマチャンバー技術を活用し、エッチングと蒸着を同時に行うことができ、組成やチャンバー条件を完全に制御することができます。これにより、成膜速度と膜厚が非常に均一になり、追加の調整ステップが不要になります。NOVELLUS CONCEPT 2リアクターは、高周波発電機と特殊誘導コイルを使用して、大面積の均一なプラズマを生成します。その後、プラズマは多段のプラズマチャンバーに渡され、チャンバーに送られる前駆体に通電します。エネルギッシュなプラズマと化学物質の組み合わせが反応して、ウェーハ上に望ましいシリコンフィルムが生成されます。これにより、高度に専門化された高価なパルスマグネトロンコーターが不要になります。CONCEPT 2リアクターはコンピュータ制御のプロセスシステムを備え、高度な診断機能と温度制御を備えています。チャンバー内の純度を維持するために不活性ガス雰囲気を使用し、真空ユニットは非常に迅速な応答時間を持ち、迅速なインプロセス調整を可能にします。データ収集機は、電力監視、室圧測定、温度測定も可能で、最適な環境を維持します。NOVELLUS CONCEPT 2リアクターは、優れたフィルム均一性と制御を提供し、プロセスパラメータを正確に制御できます。これにより、非常に高い歩留まりと実行可能なユニットの歩留まりを備えた優れた品質の製品が得られます。また、1回の実行で複数の堆積層を生成することができるため、CONCEPT 2は非常に汎用性が高くなります。これにより、生産効率を高め、廃棄物を削減しようとする半導体メーカーにとっては優れた選択肢となります。
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