中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9093692 を販売中
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ID: 9093692
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2005
CVD, HDP System, 8".
Wafer shape: Flat
SMIF Interface: No
PET Module: Yes
Aligner option: No
System main power:
208 V, 50/60 Hz, 3 phase, 5 wires
3-Phase full load current: 10 amps
Max component current: 5 amps
System UPS Power: Yes
Silt valve insert: No
Silt valve type: SMC L-Motion
TM Turbo pump bodel: Pfeiffer TMH260
TM Throttle valve model: MKS
TM Baratron model: MKS
Loadlock baratron model: MKS
IOC Version: V 4.1
TM Robot type: Mag 7
TM Robot blade: Ceramic
Wafer sensor: Existence
Signal tower: Yes
EMO's: Push button
Module controller: MC1
Host interface: SECS
Front monitor: LCD Monitor
MFC1, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964
MFC2, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964
MFC3, Ar/H2, 500 Sccm, Brooks 5964
Sys con: C2-SCON-6582
Signal cable
Chase computer
Module A, B, and C:
Chamber type: Shrink
Chamber process: ILD
Process clean type: In situ
Module controller: MC1
Module turbo pump: Pfeiffer TPH2101 PCX
Manometer 1 (10 T): MKS
Throttle valve: MKS
ESC / Dome cooling: PCW
Temp monitoring: NTM500C
Manometer 2 (10 T): MKS
HF Generator: AE RFG5500
LF Generator: AE PDX 5000
RF Match: Trazar AMU10E-2
Manometer 3 (100 m): MKS
IOC Version: 4.2
Dual clean injector kit: Yes
Injector type: Single
Louvered screen: No
Pedestal lift type: Dual position
Foreline type: Standard
NF3, 1 slm, Aera FC-D980C
Ar, 500 sccm, Aera FC-D980C
O2, 500 sccm, Aera FC-D980C
H2, 2 slm, Aera FC-D980C
HE, 500 sccm, Aera FC-D980C
SiH4, 200 sccm, Aera FC-D980C
Deinstalled
2005 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed (C2S)は、半導体産業の薄膜成膜専用に設計された2チャンバーの化学蒸着(CVD)炉です。これは、集積回路、またはICにシリコン、タングステン、窒化物などの金属や化合物を堆積するために使用されます。このC2Sは、高度なプロセス最適化に特化した信頼性の高いハイレートツールをユーザーに提供するように設計されています。C2S炉には2つのチャンバーがあり、分割壁で区切られており、化学蒸気注入装置を使用して処理室に反応剤を導入しています。2つのチャンバは、異なる圧力、温度、流量で同時に動作するように設計されています。これにより、望ましい薄膜蒸着速度とカバレッジの均一性を得るために必要なすべてのパラメータを最適化することができます。C2Sは、超高純度アルゴンを使用してチャンバーを加圧し、滑らかなガスの流れを促進し、最高の蒸着率を達成するために、加熱基板(2200°C)とサセプタシステムを使用しています。このユニットは、基板表面の最高レベルの均一性を確保するために、複数のポイントでプロセス制御を提供し、非常に正確に設計されています。必要に応じて、圧力、温度、流量パラメータを簡単に監視および調整できるように、コンピュータ化されたコントローラも提供されています。このC2Sには、NOVELLUS Close Space Sublimation (CSS)技術など、プロセスを強化するためのいくつかの高度な技術が搭載されています。この技術により、ユーザーは、従来のCVDプロセスよりも高い堆積率で、タングステン、および他の耐火金属膜の複数の層を直接堆積することができます。また、エッチング工程の必要がなくなり、低コストでサイクルタイムが短縮されます。さらに、C2SはNOVELLUS Endura CVD Machineと統合することができます。これは、より高い蒸着速度で均一なカバレッジを提供し、プロセス制御精度を向上させるように設計されています。このツールを使用すると、堆積パラメータとプロセスをリアルタイムで監視、制御、最適化することができ、欠陥制御と歩留まりの向上につながります。C2Sが提供する高いコスト/パフォーマンス比とカスタマイズ可能な機能により、幅広い先進的な製造アプリケーションに最適です。追加されたプロセス制御により、ユーザーは基板表面の所望の均一性を維持しながら、より高速でアセットを実行できます。信頼できる性能とカスタマイズ機能を備えたCONCEPT 2 Speedリアクターは、高度な薄膜デバイスを製造するための効率的で費用対効果の高いソリューションをユーザーに提供します。
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