中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9075495 を販売中

製造業者
NOVELLUS
モデル
CONCEPT 2 Speed
ID: 9075495
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2004
HDP CVD System, 8" Type: Shrink Process: STI / IMD Wafer shape: Notch Module A: shrink Module B: shrink Module B: shrink MKS Load lock baratron TM Robot: Mag 7 Ceramic TM Robot blade MC1 Module controller Existence wafer sensor EMO: Turn to release SECS IOC Version: 4.1 LCD Front monitor, 12" DLCM Gas MFC: UPC1(L L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866 UPC2(R L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866 MFC3 Ar/He 500 Sccm Brooks 5964 Chamber (A, B, C): Chamber Type: Shrink Chamber Process: STI / IMD MC1 Module controller Throttle valve: MKS 651D HF Generator: AE RFG5500 IOC Version: 4.1 Pedestal lift type: Dual position Module turbo pump: Pfeiffer TMH 2101 PCX ESC / Dome cooling: PCW LF Generator: AE PDX 8000 Dual clean injector kit Fore line type: Universal ESC Type: DS1 Manometer 1(10T): MKS629B Manometer 2(10T): MKS629B Manometer 3(100 m): MKS750B Process clean type: In situ RF Match: MECURY 3013 Injector type: Single Injector Size,1" Chamber gas box: MFC 1 Ar 500 STEC MFC 2 O2 500 STEC MFC 3 NF3 1000 STEC MFC 4 SiH4 200 STEC MFC 5 HE 1000 STEC MFC 8 H2 2000 STEC System main power: 3-208 V System UPS Power: 3-120 V Slit valve insert Slit valve type: SMC L-Motion TM Turbo pump model: Pfeiffer TMH 260 TM Throttle valve model: Tylan MKS TM Baratron model 2004 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speedは、半導体ウェーハの表面を平坦化するために使用される化学機械研磨(CMP)炉です。スタンドオフ、傷、その他の汚染物質を除去するなど、さまざまな作業に使用され、非常に均一で滑らかな表面を作成します。CONCEPT 2 Speedは非常にコンパクトで効率的なフットプリントで設計されており、あらゆるタイプのワークスペースに簡単に設置できます。この原子炉は、1サイクルで最大2つの300mmウェハに対応できる2つの高精度の高速ウェハキャリアを備えています。また、ウェハローディングとアンロードのための高度なロボットアームを備えており、一貫した効率的な処理を保証します。NOVELLUS CONCEPT 2スピードは、テープリムーバー、シンナー、パッドコンデンサー、潤滑剤など、ほとんどの研磨シーケンスに対応できます。この原子炉は、2つの軸の独立した調整を可能にする柔軟なデュアル磁気前方軸構成を利用しています。この柔軟性により、最適なパッド接触とプロセス制御が可能になります。また、汚染レベル、プロセス条件、およびパッド温度を検出できる多数のセンサーも含まれています。CONCEPT 2スピードはまた、処理中に液体スラリーを迅速かつ均等に分配する強力なスラリー拡散システムを備えています。NOVELLUS CONCEPT 2 Speedには、その性能を高めるためにいくつかの革新的な技術が搭載されています。このリアクタには、ウェーハマッピングモジュールが含まれており、ウェーハの表面層を詳述する、その種類の正確なパターンのマップを作成できます。また、残りのスラリー量を監視し、オーバー研磨を防止し、システムのパフォーマンスを監視するスラリー疲労モニタリングシステムを備えています。全体として、CONCEPT 2 Speedは高度なCMPリアクタであり、大量の研磨用途において性能と信頼性を向上させます。非常に効率的に設計されており、オペレータの相互作用を最小限に抑える必要があるため、精密CMPアプリケーションに最適です。
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