中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Shrink #293777921 を販売中

製造業者
NOVELLUS
モデル
CONCEPT 2 Shrink
ID: 293777921
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2010
CVD System, 8" (2) Chambers: Sequel and HDP Speed Speed chamber: SiH4, H2, NF3, O2, Ar, He Sequel chamber: Teos process: O2 Nitride process: Sih4, Nh3, N2 Oxynitride: SiH4, NH3, N20, N2, PH3, B2H6, He, MFC 2010 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2シュリンクリアクターは、半導体産業におけるデバイス寸法の縮小の要求に応えるために設計された先進的な半導体加工ツールです。技術が進歩するにつれて、より小型で強力な電子デバイスの必要性はますます重要になっています。CONCEPT 2シュリンクリアクターは、高度な蒸着およびエッチングプロセスのための最先端の機能を提供することにより、このニーズに対応します。NOVELLUS CONCEPT 2シュリンク炉の中心には、高度なチャンバー設計があり、優れたプロセスの均一性と制御を提供します。このチャンバー設計により、温度、圧力、ガスの流れなどのプロセスパラメータを正確に制御でき、ウェーハ全体で一貫した反復可能な結果を保証します。この原子炉には複数のプロセスモジュールが装備されており、それぞれが特定の堆積プロセスとエッチングプロセスに合わせて調整されているため、高い柔軟性とカスタマイズが可能です。CONCEPT2シュリンクリアクターの主な特徴の1つは、原子層成膜(ALD)や化学蒸着(CVD)などの高度な薄膜蒸着プロセスを実行することです。これらのプロセスは、半導体デバイスで使用される薄膜を作成するために不可欠であり、デバイス機能に必要な絶縁性、導電性、およびその他の特性を提供します。リアクターのプロセスパラメータを正確に制御することで、超薄膜をサブナノメートルの厚さの均一性で堆積させることができ、最適なデバイス性能を保証します。薄膜成膜に加えて、NOVELLUS CONCEPT 2 Shrinkリアクターは、パターン転送とデバイス構造化のための高度なエッチング機能も備えています。この原子炉には、高い選択性と均一性を持つ幅広い材料をエッチングすることができるプラズマエッチングモジュールが装備されています。これにより、FinFETトランジスタや3D NANDフラッシュメモリなどの高度な半導体デバイスに不可欠な高アスペクト比の複雑なデバイス構造を構築することができます。CONCEPT 2シュリンクリアクターは、生産性とコスト効率に重点を置いて設計されており、ウェーハ処理能力を最大化する高スループット設計を特徴としています。リアクターは、複数のウェーハを同時に処理することができ、サイクル時間を短縮し、全体的な生産性を向上させることができます。さらに、原子炉には、プロセス効率を最適化し、材料廃棄物を最小限に抑える高度なプロセス監視および制御システムが装備されています。全体として、NOVELLUS CONCEPT 2シュリンク炉は、精度、柔軟性、生産性を兼ね備えた先進的な半導体加工ソリューションです。その先進的なチャンバ設計、プロセスモジュール、制御システムは、幅広い成膜およびエッチングプロセスに対応する汎用性の高いツールであり、小型化と高性能を実現する次世代半導体デバイスの開発を可能にします。半導体産業がデバイスの小型化の限界を押し進めていく中で、CONCEPT 2シュリンク炉はこれらの進歩を可能にするために重要な役割を果たしています。
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