中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #293798174 を販売中
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ID: 293798174
ヴィンテージ: 2002
CVD System, 8"
Wafer type: Notch / flat
Process: SION
Mag7 Robot vacuum
Single chamber
Light towers: RYG, 3-Color
Main frame: DLCM Express, 8"
Signal tower: Cool station
Dual load lock cassette module
No integrated SMIF ASYST LPI2200
No front-end option
Process chamber A:
Process type: SION
High frequency RF Generator: RFG5500
Low frequency RF Generator: PDX1400
Gate and throttle valve
End point detector
Manometers: 10 / 1000 TORR MKS
Ferrofluidic spindle
Clean process: IN-SITU
Gas box:
Gas / MFC Size (SCCM)
C2F6 / 5000
PH3 / 1000
O2 / 5000
SIH4 / 1000
NH3 / 3000
N2O / 10000
N2 / 10000
N2 / 5000
Heater
Shower head
Gas box exhaust
2002 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Expressは、高度な半導体デバイスの処理用に構築された最先端の多機能エッチングおよび蒸着炉です。このバッチベースのPECVD対応ツールは、ウェーハ処理のための汎用性と費用対効果の高いプラットフォームを提供します。CONCEPT 2 Sequel Expressは画期的な「Hot Wall」コンセプトに基づいており、単一の原子炉での統合チャンバークリーニング、石英壁活性化、蒸着ステップを可能にします。Hot Wall設計は、プロセス最適化のための高スループットで低コストのウエハアプローチを提供します。熱い壁の高い熱効率は均一な温度の配分および速い周期を保障します。シークアルエクスプレスは、デュアルガスインジェクタ、高リニアリティーヒーター、温度固有のプログラマブルバイアス、ユニバーサルソースモジュールなど、汎用性の高い機能を備えています。二重ガス注入器は蒸着ガスの流れを正確に制御し、速いサイクル時間を提供するように設計されています。高リニアリティーヒーターは、温度制御を改善し、優れたエッチングと蒸着性能を提供します。温度固有のプログラマブルバイアスにより、オンウェーハ性能が向上し、ウェーハ全体にわたって均一性が維持されます。ユニバーサルソースモジュールは、幅広いガスや材料との互換性を可能にし、ユニポーラおよびバイポーラ基板上での高性能デバイスの製造を可能にします。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Expressには、チャンバー内の最適な環境を維持するように設計された統合された高度なベントチャンバーがあり、同時に処理チャンバーからの揮発性有機化合物（VOC）の排出を最小限に抑えます。また、ベントチャンバーにより、水やその他の材料を素早く安全にチャンバーから除去することができ、汚染を最小限に抑え、高いスループット率を維持することができます。CONCEPT 2 Sequel Expressは、高度な半導体デバイスを効率的に処理するための画期的なツールです。ホットウォール設計により、急速な熱均一性とサイクルタイムが保証され、デュアルガスインジェクタやその他の高度な機能により、幅広い材料やガスとの互換性が実現されます。最後に、ベントチャンバーは最適な動作条件を維持しながら、VOC排出量を最小限に抑えます。
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