中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual speed-S #9097741 を販売中
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ID: 9097741
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1996
CVD System, 6"
Loadlock baratron: Tyran general
Loadlock dry pump: EDWARDS QDP40
Slit valve: SMC L-motion
TM Dry pump: EDWARDS QDP40
TM Throttle valve: Tyran general
TM Baratron model: Tyran general
TM Robot: MTR 5
TM Robot blade: Metal
Wafer sensor: Existence
Host interface: SECS
Module controller: MC1
12" LCD Front monitor
Module A: Shrink, STI/IMD
Manometer 1: Tyran general
Manometer 2: Tyran general
TMP Pump right: TG1113MBW-09
TMP Pump left: Osaka vac TG1113M
TMP Controller: TD 701/1101
Throttle valve: VAT 14046-PE24-0005
HF Generator: ENI OEM-50N-11601
LF Generator: ENI CLF-5000/400
Module dry pump: EDWARDS QDP80
Pump booster: EDWARDS EH1200
RF Match: TRAZAR AMU10E-1
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 2 O2 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 3 NF3 1 SLM BROOKS 5964
MFC 4 SIH4 200 SCCM BROOKS 5964
MFC 5 SIF4 200 SCCM BROOKS 5964
Module B: Shrink, STI/IMD
Manometer 1: Tyran general
Manometer 2: Tyran general
TMP Pump right: TG1113MBW-09
TMP Pump left: Osaka vac TG1113M
TMP Controller: TD 701/1101
Throttle valve: VAT 14046-PE24-0005
HF Generator: ENI OEM-50N-11601
LF Generator: ENI CLF-5000/400
Module dry pump: EDWARDS QDP80
Pump booster: EDWARDS EH1200
RF Match: TRAZAR AMU10E-1
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 2 O2 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 3 NF3 1 SLM BROOKS 5964
MFC 4 SIH4 200 SCCM BROOKS 5964
MFC 5 SIF4 200 SCCM BROOKS 5964
DLCM Gas MFC
MFC1: UPC, Ar/He, 1 SLM, BROOKS 5866 RT
MFC2: UPC, Ar/He, 1 SLM, BROOKS 5866 RT
MFC3: Ar/He, 500 SLM, BROOKS 5964
SMIF Interface: No
PET Module: No
UPS Power: 120 V, 3 Ph, 3 wires
Main system: 208 V, 3 Ph, 5 wires
Currently de-installed
1996 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual speed-S Reactorは半導体製造に使用される化学成膜チャンバーです。低温および高温の化学蒸着（CVD）プロセスの両方を提供することができ、誘電体、オキシニトリド、金属膜の幅広い処理を可能にします。デュアルチャンバー設計では、2つのアプリケーション（高温および低温）を同時または独立に実行することができ、プロセスのスループットを最大化しながらバッチプリカーソルの配信と蒸着を可能にします。CONCEPT 2 デュアルスピードSリアクターは、1000°Cまでの温度で誘電体と金属膜を処理できる汎用性の高い高温CVDチャンバーを備えています。また、450 ˚Cまでの温度でオキシニトリドおよび誘電膜を処理できる低温CVDチャンバーを備えています。両方のチャンバーは、さまざまな開始前駆体で使用するように設計されており、複数のレシピ後処理オプションを備えています。NOVELLUS CONCEPT 2 デュアルスピードSリアクターは、精度、サンプリング、制御を提供する高度で堅牢な技術コンポーネントで構築されています。低温CVDチャンバーは、特許取得済みのforwardDirect™射出技術を使用しており、より高速で効率的な成膜を可能にし、均一な成膜と高い歩留まりを実現します。高温CVDチャンバーは、広範囲にわたってタイトな温度制御と均一な蒸着のためにユニークに設計されたガスマニホールドで設計されています。CONCEPT 2 Dual speed-S Reactorのもう一つの特徴は、自動化されたプロセスです。特許取得済みのロボットコンベアシステムにより、リアクターはウェーハ、基板、材料、コンポーネントをシステムを通じて自動的に移動させることができ、ロボットアシストアームは前処理室とプロセス容器の正確かつ均一な負荷を保証します。前処理室はまた均一なフィルムの沈着を保障するためにプロセス容器に基質に荷を積む前に毛布処理を可能にします。全体として、NOVELLUS CONCEPT 2 Dual speed-S Reactorは信頼性が高く、効率的で汎用性の高い化学成膜チャンバーです。低温CVDプロセスと高温CVDプロセスの両方を実行できるため、さまざまな半導体製造プロセスに最適です。その高度な技術コンポーネント、自動化されたプロセスおよびforwardDirect™射出技術は、正確で均一で高い歩留まり操作を提供します。
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