中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel #9092631 を販売中
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ID: 9092631
ウェーハサイズ: 6"
CVD system, 6"
Software: C2.SEQ_4.92B15
Operating system: QNX4
SECS GEM: Yes
Free cable length: 75 Ft
RF Cable length: 84 Ft
Indexer firmware: 2.0_G
Transfer robot: Brooks Mag 7
Chamber location: Left
Chamber model: C2-CVDD-S SEQX
EPD: Verity dual wavelength
Shower head: Al 6061 8" 16-033931-00
Handling wafer size: 6"
Heater block: No slot Sequel STN 1 pin 19-00154-04
Spindle speed: Standard
Fork assembly: Ceramic anti-deflect
15-101482-00
15-101482-01
15-00700-00
Fork type: Min Contact
15-053394-02
Spindle feed through: Ferro fluidic
Primary process gauge: 10T
Gate & throttle valve: Heated / Internal
02-260348-00
16210-0403QS-002HJR
MFC Type: Brooks GF100
IOC Software version: 4.2
RF Switching option: Yes
RPC (Remote plasma clean): No
HF RF Generator: AE Apex 5513
LF RF Generator: AE PDX 1400
RF Match AE mercury: 3013
Foreline heated: No
2.0 MFC C Open
MFC B N2 (10000 sccm)
MFC A N2O (20000 sccm)
MFC 9 NF3 (5000 sccm)
MFC 8 O2 (20000 sccm)
MFC 7 Open
MFC 6 NH3 (10000 sccm)
MFC 5 Open
MFC 4 Open
MFC 3 Open
MFC 2 N2 (5000 sccm)
MFC 1 SiH4 (1000 sccm)
Chamber location: Rear
Chamber model: C2-CVDD-S SEQX
EPD: Verity dual wavelength
Shower head: Al 6061 8" 16-033931-00
Handling wafer size: 6"
Heater block: No slot Sequel STN 1 pin 19-00154-04
Spindle speed: Standard
Fork assembly: Ceramic anti-deflect
15-101482-00
15-101482-01
15-00700-00
Fork type: Min Contact
15-053394-02
Spindle feed through: Ferro fluidic
Primary process gauge: 10T
Gate & throttle valve: Heated / Internal
02-260348-00
16210-0403QS-002HJR
MFC Type: Brooks GF100
IOC Software version: 4.2
RF Switching option: Yes
RPC (Remote plasma clean): No
HF RF Generator: AE Apex 5513
LF RF Generator: AE PDX 1400
RF Match AE mercury: 3013
Foreline heated: No
2.0 MFC C Open
MFC B N2 (10000 sccm)
MFC A N2O (20000 sccm)
MFC 9 NF3 (5000 sccm)
MFC 8 O2 (20000 sccm)
MFC 7 Open
MFC 6 NH3 (10000 sccm)
MFC 5 Open
MFC 4 Open
MFC 3 Open
MFC 2 N2 (5000 sccm)
MFC 1 SiH4 (1000 sccm)
System main power: 3ϕ 5Wires 208V
System UPS power: 3ϕ 3Wires 120V
SMIF Interface: No
Aligner option: No
Loadlock dry pump model: No
Slit valve insert: No
Slit valve type: SMC L-Motion
TM Dry pump model: No
TM Throttle valve: MKS 253B
TM BARATRON model: MKS
Front monitor: 12" LCD
Chase monitor : LCD
Loadlock BARATRON model: No
Indexer robot type: Indexer II
IOC Version: 4.1
TM Robot type: Mag 7
TM Robot blade: Ceramic
Software revision: 4.80 B22
Signal tower: Yes
Module controller: MC1
Host interface: SECS
Module A: Express
Process A: SiH4 Base
Module B: Express
Process B: SiH4 Base
System and DLCM:
MC1 (P166 64M) System
DLCM Module controller
MSSD (2 Sequel configuration) power rack
Upgrade 4 cool station
SiH4 Base oxide process
Signal cables
RF Coaxial cables
MKS 253B throttle valve
651D Throttle valve controller
MAG 7 Transfer robot
Dual arm
Indexer robot
Animatics controller
Standard shuttle assy
Chase PC and table
Generator rack
Process module:
Chamber type: Shrink
Chamber process: SiH4 base
Process clean type: In Situ
Endpoint option: No
Module controller: MC1
Heater block type: Standard
Module dry pump: No
Manometer 1(10T): MKS 627A11TBC
Throttle valve: MKS 253B-15665
Spindle topplate type: Standard
IOC2 option: Ver 4.1
Manometer 2(100T): MKS 627A13TBC
HF Generator: RFG5500
LF Generator: PDX1400
RF Match: AE Mercury 3013
TEOS Delivery cabinet: No
IOC Version: 4.1
Foreline gate heat option: Yes
Foreline gate valve type: HVA
Chamber gas box:
Gas name MFC Size MFC Model
SiH4 1 SLM AERA 7800
N2A 5 SLM AERA 7800
N2B 10 SLM AERA 7800
N20 20 SLM AERA 7800
NH3 10 SLM AERA 7800
O2 20 SLM AERA 7800
C2F6 5 SLM AERA 7800
Module A :
Gas filters
Gas box
HF and LF RF Generators
RF Matching network
Lower spindle assy
Ferrofluidic spindle Assy
Bottom and top plates
10Torr and 1000Torr manometer
Heated type HVA gate and MKS throttle valves
Throttle valve controller
Upgrade MC1 (P166 64M) module controller
Ceramic type spindle fork assy
O-Rings
Metal parts in chamber
Watlow temp controller
Window shappire
Heater ISO box
TC gauge
MFC's
Heater block (OPM)
Shower head
RF and heater feedthru
2000-2001 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequelは、プラズマベースの化学蒸着（CVD）システムのリーディングプロバイダーであるNOVELLUS Systems、 Inc。が設計・製造した原子炉です。この原子炉は、半導体デバイスの製造に使用され、サブミクロンおよびウルトラミクロンのサイズで使用され、これらのコンポーネントの大量生産に適しています。この原子炉は、基板に材料を堆積するために2つの別々のチャンバーを利用したユニークなデュアルチャンバー設計を含んでいます。デュアルシーケルリアクターは、非常に低い膜厚から高い膜厚まで、最大10 Torrのチャンバー圧力を蒸着プロセスに使用します。また、蒸着プロセスを常時監視するための検出ユニットも含まれています。ウェーハ全体の熱均一性を保持するために、リアクターには、壁の温度の変化による有害な影響を軽減するように設計されたウェーハ冷却機能が含まれています。さらに、この機能は、プロセスから不純物を除去するのにも役立ちます。デュアルシーケルリアクターにはユニークなインターロック装置が付属しています。これは、共有真空ラインを介してプロセスチャンバーを互いに接続することによって機能します。このインターロックにより、両方のチャンバーが連携して動作し、信頼性と一貫したパフォーマンスを実現します。このインターロックは、システム全体の圧力調節にも役立ち、チャンバー圧力が意図された範囲にとどまることができます。その他の特長としては、プロセスガスの使用を最小限に抑える高効率ガス供給ユニットがあります。マシンはまた、一連のプロセスを同時に実行することによってプロセスを高速化するために使用することができる特別な'ハーフオン'モードで動作します。さらに、デュアルシークエルは、緊急ポンプツールや安全インターロックなどの高度な安全機能により、より高いレベルの安全性を提供します。全体として、CONCEPT 2 Dual Sequel Reactorは、小型半導体部品の大量生産に適した高度で高スループットで信頼性の高いCVDツールです。独自のデュアルチャンバー設計により、より高いレベルの蒸着と温度制御が可能です。また、連結アセットにより、より統一された効率的なプロセスが可能になります。また、安全性の向上、プロセスガスの最小化、スループットの向上を目的としたさまざまな機能を備えています。
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