中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus #9093684 を販売中
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ID: 9093684
CVD System
Standard and PNL chamber
Shrink chambers
Frame has PNL option
Module controller: MC1 P166 QNX4
IOC Version: 4.1
Shuttle type
SMC L-motion slit valve
Verify end point detector
RFG 3000 Generator
Power rack: MSSD.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus Reactorは、最も要求の厳しいエッチングおよび蒸着アプリケーション用に設計されたユニークな機能を備えたデュアルスパッタデバイスです。リアクティブな機能と優れたプロセス制御を組み合わせ、一貫した高品質の結果を保証します。NOVELLUSは、二重ALTUS独自のAC/DC/O2制御をCONCEPT-2し、蒸着を遅延させるためのフィールドエミッションソース(FES)技術と組み合わせることで、コーティングの品質と均一性を大幅に向上させます。CONCEPT 2 Dual Altusは、従来のConcept 1と同じフレーム上に構築されていますが、処理される表面積の2倍のデュアルケージ、スパッタリングの精度の向上、複数のプラズマ源の改善、追加のO2ソースなど、いくつかの機能が強化されています。デュアルケージスパッタリング設計により、電界の可能性が低減され、非常に均一な蒸着とフィルムの均質性が向上します。DUAL ALTUSは、プラズマ源とウェハCONCEPT-2間にファラデーのケージを挿入することで、作業エリアのプラズマ環境を厳しく制御し、アークや汚染を防ぐことができます。さらに、NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altusは、蒸着速度、均一性、厚さを正確に制御するための高度なプロセス制御オプションを備えています。リアルタイムフィードバックと高度なプロセスアルゴリズムを使用することで、NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUSは一貫して優れた品質の製品を生産することができます。さらに、CONCEPT 2 Dual Altusは、プロセスの再現性を向上させるためのより効率的な設計を特徴とし、より環境に優しいプロセスのためのO2消費量を劇的に削減しました。最後に、CONCEPT-2 DUAL ALTUSは、さまざまなアプリケーションで簡単に変更できるモジュラー設計で、幅広いプロセス環境で機敏かつ汎用性があります。この汎用性と拡張性により、お客様は既存のFact10環境をNOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altusおよびその高度な機能をアップグレードまたは拡張することができます。NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUSは、成膜やエッチングプロセスの強化や特殊なアプリケーションに使用される場合でも、一貫して高品質な結果を出すことができる優れたツールです。
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