中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 #9093690 を販売中
URL がコピーされました!
ID: 9093690
Chamber
Includes:
(1) Process pump per process chamber: BOC Edwards, P/N: ih1000
(1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards, P/N: i80
(1) TM Pump per system: BOC Edwards, P/N: i80
(1) LL Pump per system: BOC Edwards, P/N: i80
Facility and Interface:
Altus module locations: Dual, Port 2 and 3
Remote interconnect cables; 75 ft
Modular power distribution [MPD, DUAL, ALTUS, C2PDP]: 01-298450-11
DLCM-S:
Robot assy, Mag7, Bisymmetrik Arm, DLCM: 02-262359-00
Transfer module to chamber valve (SMC Valve): 02-121427-00
Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02
Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00
Readiness kit: Dual Altus ready
Software/Controls:
Modular controller type: 02-272554-00, MC3
System controller type: 02-267883-00, MC3
System software (QNX): 5.1
DLCM-S IOC:
0, IOC, 4.1
2, IOC, 4.1
3, IOC, 4.1
Altus IOC:
0, SIOC, 4.30
1, SIOC, 4.30
2, SIOC, 4.30
3 (MPD), IOC, 4.10
Chase UI Kit: 02-117110-00
Process Chamber Configuration:
SHWRHD, 8", Style B: 03-00258-00
Assy, Ped, 8" Moer, D.3, Semi: 02-033134-01
Excl ring, 8", 2.0 mm Oh, Semi: 15-032777-00
Indexer plate, Hub: 15-034848-00
Indexer, WF, Excl, Option, 8": 15-00934-02
Spindle assembly: 02-126697-00
Opt endpt det'r, Mstr, Alt-s: 04-120458-00
Throttle valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00
Gate valve, vat: 60-10015-00
Gas Box Configuration:
A Manifold:
1: Aera FC-7800CD, AR/2 SLM
3: Aera FC-7810CD, H2/20 SLM
B Manifold:
6: Aera FC-7810CD, C2F6/2 SLM
7: Aera FC-7800CD, O2/2 SLM
D Manifold:
2: Aera FC-7800CD, SiH4/100 SCCM
H Manifold:
D: Aera FC-7810CD, AR/20 SLM
W Manifold:
4: Aera FC-7810CD, Ar/20 SLM
5: Aera FC-7800CD, WF6/1 SLM
C Manifold:
8: Aera FC-7810CD, AR/10 SLM
9: Aera FC-7810CD, H2/20 SLM
Baratron:
Altus, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Altus, CAP MANOMETER,HEATED 10 TOR: 27-10343-00
Altus, Backside, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, LOADLOCK, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, TM, CAP MANOMETER,HEATED 100 TORR: 27-10340-00.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2リアクターは、大量の半導体デバイス製品の製造に使用される化学的に強化された物理蒸着（CEPVD）リアクターです。これは、さまざまな動的構成のさまざまなアプリケーションをサポートするモジュラーアーキテクチャに基づいています。この原子炉はデュアルチャンバーで設計されており、1つのチャンバでの高速蒸着、もう1つのチャンバでの低速蒸着が可能です。これにより、リアクターは高いスループットを維持しながら消費コストを削減できます。この原子炉は、ウエハプロセスチャンバーとソースチャンバーを分離する独自の熱的に比類のない設計を採用しているため、ソースチャンバーの熱変動の影響を受けません。この熱絶縁により、効率的な熱管理と一貫した蒸着速度が可能です。さらに、CONCEPT 2 Dual Altus 2は、同じチャンバー内の異なる層の堆積を可能にする分割蒸着チャンバを使用します。このスプリットチャンバー設計により、原子炉を半導体生産ラインに容易に組み込むことができます。NOVELLUS CONCEPT 2デュアルアルタス2リアクターは、優れた負荷処理、温度均一性、均一な蒸着率を提供するカスタムクラフトクォーツチューブを使用しています。それに信頼できる均等性およびtaylorgraphy性能を保障する高度のオンウェーハの温度のモニタリングシステム（OWTM）があります。高度なOWTMは、ナノ秒以上の温度で高速なスパイクを検出することができ、単一のウエハにわたって温度勾配を制御することができます。これにより、各ウェハのリアルタイム温度データを監視および表示することで、プロセスが一貫して確実に実行されるようになります。CONCEPT 2 Dual Altus 2リアクタの主な利点は、複数の前駆体バッチを処理する能力です。これにより、リアクタは単一のバッチで異なるプラットフォームの進歩を伴うウェーハを処理することができます。アップストリームガス混合システムの導入により、NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2は、圧力、温度、ガスの流れなどのさまざまなプロセスパラメータをリアルタイムで調整することができ、複雑な蒸着プロセスをより正確に制御できます。全体として、CONCEPT 2 Dual Altus 2は、優れた均一性と生産率を提供する実績のある信頼性の高いCVD炉です。複数のプリカーサバッチを処理する機能と、高度なオンウェーハ温度監視システムにより、大量の半導体デバイス製品の製造に最適です。
まだレビューはありません