中古 NOVELLUS CONCEPT 2-CVDD-S #293776222 を販売中

NOVELLUS Concept 2 CVDD Sは、半導体材料を堆積するために特別に設計された化学蒸着（CVD）原子炉です。これは、前駆体の低圧ガス混合物を使用して半導体材料の薄膜を生成する単一のウエハ、超高真空チャンバーです。前駆体ガスはチャンバー内に引き込まれ、チャンバー内で発生する高温によって加熱され分解されます。これは、均一な厚さで基板上に堆積する蒸発化合物を生成します。コンセプト2 CVDD Sは、混合モード処理機能を提供し、窒化物、酸化物、ポリシリコン、およびSRD金属を堆積することができます。また、高速で自動化されたウェーハハンドリングにより、最大スループットを実現し、混合モード成膜の材料間の迅速な変換を可能にする自動レシピセットアップ機能を備えています。NOVELLUS Concept 2 CVDD Sは、最先端の設計を採用し、超高蒸着速度性能と優れた均一性を提供します。これは、最適化された2グリッド電源供給装置と組み合わされた堅牢なウェハボート構造を備えており、電圧ダウンタイム（VDT）を低減し、安定したプロセス制御を可能にします。チャンバーは金属製のベローズゲートバルブで密閉されており、優れた真空メンテナンスが可能です。さらに、ウェーハ処理効率を向上させる完全自動基板搬送機構を備えています。Concept 2 CVDD Sは、ガス流量、圧力、温度、電力、フラックスなどのプログラマブル変数を備えた高度なコンピュータ化プロセス制御マシンも備えています。また、プロセス監視機能とチューニング機能の広い範囲を提供しており、正確なプロセス制御と迅速な生産を可能にします。さらに、このツールは経済的で信頼性が高く、メンテナンス性が低い。要約すると、NOVELLUS Concept 2 CVDD Sは、超高真空、シングルウェーハ、CVDリアクターであり、優れた蒸着速度、正確な制御、および優れた均一性を提供します。幅広い半導体アプリケーションに最適で、自動基板転送機構、2グリッド送電資産、プログラマブルパラメータ、さまざまなプロセス監視機能などの機能を備えています。また、経済的で信頼性が高く、メンテナンス性も低いです。