中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9377394 を販売中

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製造業者
NOVELLUS
モデル
CONCEPT 2 Altus
ID: 9377394
System Front end.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altusは、さまざまな材料を基板に堆積させるために設計された物理蒸着(PVD)原子炉です。金属、半導体、セラミックス、低k誘電体フィルムなど、幅広い用途に適しています。Altusは革新的な高度なPVDツールで、幅広いフィルムと材料成膜技術を備え、高いスループットと柔軟性を提供します。アルタスは最先端の設計で、2つのリニアマグネットソース構成、真空圧力容器、フィラメントレスプロセスチャンバーを備えています。デュアルリニアマグネットソース構成は、材料のソースをプロセスチャンバーに直接配置し、非常にエネルギッシュで均一なプラズマを作り出します。このプラズマは、フィルムの厚さと組成を正確に制御し、高品質のフィルムを堆積させることができます。真空圧力容器はさらにプロセスの均一性を高め、プロセスパラメータの微調整を可能にします。フィラメントレスプロセスチャンバーは、優れた均一性と信頼性、およびプロセスの柔軟性を向上させます。ハイブリッド化されたプロセスオプションを備えているため、沈着前の材料の光学特性を持たずに、必要に応じてプロセスパラメータを変更できます。これにより、システムを変更することなく、複数のターゲット材料と蒸着プロセスを使用することができます。CONCEPT 2 Altusは、in-situ optical emission spectroscopy (OES)システムも備えています。OESは、温度と組成を含むプラズマを瞬時に監視することができ、オペレータはプロセスをリアルタイムで調整することができます。堆積物のリアルタイムデータを提供することにより、アルタスは一貫して高品質のフィルムと再生可能な性能を保証します。全体として、NOVELLUS CONCEPT 2 Altusは、多くのアプリケーションに適した高度なPVDリアクタです。ターゲット材料の光学特性を最小限に抑えながら、材料沈着を正確に制御できる先進技術を提供します。さらに、高度なin-situ光放射分光法により、プロセスのリアルタイム監視が可能になり、高品質で再現性の高い結果が得られます。
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