中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9171171 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 9171171
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2001
Chemical vapor deposition (CVD) system, 8"
Process: CVD - Tungsten dep
Module configuration: Standard
Wafer type: Notch
Module type: CVDW
SMIF Type
(2) Chambers
Software: QNX2 / 4
Module controller: MC2
Pedestal assembly type: Ped assy, 200mm MORE, D, no flat, SEMI 0
Exclusion ring type: MOER 0
Exclusion ring lift type: 02-054427-01 0
DLCM Configuration:
DLCM Type: Shrink
Cassette interface: Platform
Robot type: Mag7 (P/N: 003-1600-25)
Arm set: Dual arm (P/N: 002-0016-14)
Cool station: 3-Level
Pressure gauge:
Capacitance manometer, MKS (P/N: 750B12TCE2GK), 100Torr
MYCROLIS Throttle valve
MKS 651D-16202 Throttle valve controller
ANIMATICS CDP2407-2 Indexer controller
Slit gate valve (Chamber A, B):
02-121427-00, SMC, XGT-0402AWM-X16 Rev8
Slit gate valve (Loadlock A, B):
02-133793-00, SMC, XGT-0101AWM-X16 Rev1
Chamber configuration:
Chamber A CVD - Tungsten
Chamber B CVD - Tungsten
Pedestals: 200 mm
MOER:
Pedestal 1
Pedestal 2-5
Clean: Insitu
Millipore MDVX-100B Throttle valve
27-053468-00 Throttle valve controller
VAT 14040-PE34-0003 Gate valve
Pressure gauge:
100 Torr (Milipore, CDLD2106E), Backside
100 Torr (Milipore, CDLD2106E)
10 Torr (Milipore, CDLD1106E)
RF Match: Trazer, AMU2-1
RF Configuration:
HF RF Generator type: AE RFG 3000
MFC Size & Gas type:
Chamber A:
MFC1 / SLM / Ar
MFC2 / 50SCCM /SiH4
MFC3 / 20SLM / H2
MFC4 / 20SLM / Ar
MFC5 / 500SCCM/ WF6
MFC6 / 2SLM / C2F6
MFC7 / 2SLM / O2
MFC8 / 10SLM / Ar
MFC9 / 20SLM / H2
MFCC / 2SLM / Ar
MFCD / 20SLM / Ar
MFCE / 500SCCM / WF6
UPC1 / SLM / Ar
Chamber B:
MFC1 / SLM / Ar
MFC2 / 50SCCM /SiH4
MFC3 / 20SLM / H2
MFC4 / 20SLM / Ar
MFC5 / 500SCCM/ WF6
MFC6 / 2SLM / C2F6
MFC7 / 2SLM / O2
MFC8 / 10SLM / Ar
MFC9 / 20SLM / H2
MFCC / 2SLM / Ar
MFCD / 20SLM / Ar
MFCE / 500SCCM / WF6
UPC1 / SLM / Ar
2001 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactorは、高度なエッチング環境で高度な半導体材料処理を実行できる最先端のツールです。Altus Reactorは、あらゆる種類の関連アプリケーションに高品質で高スループットエッチング機能を提供するように設計されたオールインワンシステムです。CONCEPT 2 Altus Reactorは、特にエッチングの性能を向上させるように設計されています。誘導結合プラズマ(ICP)と高精度リアクティブイオンエッチング(RIE)と指向性イオンビームエッチング(DIBE)を組み合わせた画期的な先進エッチング技術を採用しています。この高度なエッチング技術は、究極のステップカバレッジ、エッチパラメータの高度な制御、高いスループット、大きなウェーハ領域に対する均一なエッチング速度、およびウェーハ表面の損傷を低減します。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactorの主な特徴は、システムが提供する高度なエッチング技術を最大限に活用できる高度なエッチプロセッサです。このプロセッサは、エッチング条件の高精度を可能にするだけでなく、柔軟なパラメータとリアルタイムのフィードバックにより、エッチプロセスの最適化に関する洞察を提供します。これにより、ユーザーはエッチングレシピを迅速かつ正確に最適化し、アプリケーションの最良の最終結果を保証できます。CONCEPT 2アルタスリアクターは、高度な自動キャリブレーション機能のおかげで使いやすく、メンテナンスも簡単です。この機能により、ユーザーはエッチングチャンバーを迅速かつ正確に校正することができ、すべてのエッチングプロセスが最高の精度と精度で行われるようになります。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactorは、高度な自動クリーニング機能と高度な診断機能を兼ね備え、信頼性が高く効率的なエッチングシステムを提供します。CONCEPT 2 Altus Reactorは、先進的なエッチング技術、ユニークなプロセッサ、使いやすい機能により、あらゆる半導体エッチング用途に最適です。その先進的なエッチング技術は、関連するあらゆるエッチング用途において可能な限り最良の結果を保証し、高度な半導体材料加工のための効果的で信頼性の高い高品質なソリューションとなります。
まだレビューはありません