中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #181297 を販売中
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ID: 181297
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
Dual Shrink W-CVD Chemical vapor deposition system, 8"
Chamber Location
1 Station Left Loadlock
2 station Process Module
3 station Process Module
4 station Right Loadlock
5 Station Cooling Sation
Electrical Requirements
AC power Voltage 208 VAC
DLCM Configuration
Indexer Type: Animatic Controller
Brooks Robot Type: Mag7
Host Interface: GEN/SECS
Controller Type : P166/64M/QNX4
DLCMS Type: Only Hi
Module Interface Type: Arc-net Type
IOC : Ver 4.1
TM Manometer 1 torr/ 100mtorr: Tylan General
L/L Manometer 100torr: Tylan General
L/L Convectron: Not Install
Module Door Type: SMC L-Motion
Chamber A:
Process Option BLKT
Clean Option Insuts Clean
MOER Ceramic M/A / M/B (Not Used)
Throttle Valve Type Tylan General 1ea
MFC Type & Size
Brooks 5964:
Ar (5000Sccm)
Ar (10000Sccm)
Area FC980C:
NH3 (150Sccm)
Brooks 5964:
Ar (10000Sccm)
Ar (20000Sccm)
Ar (20000Sccm)
H2 (20000Sccm)
H2 (20000Sccm)
Area FC980C:
B2H6, N2 (750Sccm)
Brooks 5964:
C2F6 (2000Sccm)
SAM MC4VLZ24:
WF6 (1000Sccm)
Brooks 5964:
O2 (2000Sccm)
SiH4 (1500Sccm)
SFC1480FPD:
SiH4 (300Sccm)
Slip Valve Type: SMC L-Motion
Chamber B:
Process Option BLKT
Clean Option Insuts Clean
MOER Ceramic M/A / M/B (Not Used)
Throttle Valve Type Tylan General 1ea
MFC Type & Size
SPEC 7330:
Ar (5000Sccm)
Ar (5000Sccm)
NH3 (1000Sccm)
NH3 (1000Sccm)
Ar (20000Sccm)
Ar (5000Sccm)
Ar (15000Sccm)
H2 (5000Sccm)
H2 (20000Sccm)
B2H6, N2 (750Sccm)
C2F6 (2000Sccm)
WF6 (750Sccm)
O2 (2000Sccm)
SiH4 (1000Sccm)
Slip Valve Type SMC:
L-Motion
1996 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altusは、高度に専門化された先進的なPVD（物理蒸着）原子炉装置です。半導体、オプトエレクトロニクス、マイクロエレクトロニクスデバイスで使用されるシリコンウェーハなどの大規模な基板に堆積物の薄膜を適用するために一般的に使用されます。CONCEPT 2 Altusシステムは、プロセス歩留まりの最適化を目標に、高度なプロセス制御、均一性、柔軟性を提供するように設計されています。PVDチャンバはリニアモータによって駆動され、安定した安定した環境で均一な蒸着が可能です。また、可変基板サイズ、調節可能な銃位置、複数のゾーン、2つの蒸着材料を備えており、プロセスの均一性とスループットを最大化するのに役立ちます。また、高速で高精度なロボットアームを備えており、素材を素早く正確に動かしてロードします。NOVELLUS CONCEPT 2 Altusユニットには、プロセスを継続的に監視し、反応の均一性に関する詳細なフィードバックを提供するさまざまなセンサーとコントローラが装備されています。これにより、薄膜の可能な限り最高の品質と再現性が実現されます。このマシンには、蒸着プロセスをリアルタイムで監視、評価、調整するために使用できる独自のソフトウェアも含まれています。CONCEPT 2 Altusツールは、プロセスパラメータのより大きな制御、より高い精度と再現性、およびプロセスの安定性の向上をユーザーに提供します。高品質の薄膜を大規模基板に迅速かつ効率的に適用したい方に最適な資産です。優れた性能、再現性、柔軟性を兼ね備えたNOVELLUS CONCEPT 2 Altusモデルは、大量のPVDアプリケーションに最適です。
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