中古 NOVELLUS Concept 2 Altus Shrink #9180728 を販売中

NOVELLUS Concept 2 Altus Shrink Reactorは、半導体デバイス製造のための汎用性の高いツールであり、異なる構造設計の高精度ナノメータスケールトランジスタの製造を可能にします。コンセプト2 Altus Shrinkリアクターは、デバイス製造のための幅広いフィルム材料の堆積を可能にする化学蒸着（CVD）ツールです。このツールには、原子レベルの精度で単層材料を正確に堆積させるための高度なプラズマCVD化学が組み込まれています。NOVELLUS Concept 2 Altus Shrinkリアクターは、高速な蒸着速度を可能にするように設計されており、大きな表面積に対して均一な厚さを提供します。ウェーハチャンバーを縮小して圧力とガス流量を最適化することにより、この能力を達成できます。Concept 2 Altus Shrink Reactorは、従来の他のCVDリアクタよりも超高真空と低圧の組み合わせで、臨界層の厚さの堆積に最適化されています。デバイス保護に優れた各種エッチング耐性材料を堆積させ、異なるデバイス構造の様々な厚さの金属誘電膜を堆積させることができます。NOVELLUS Concept 2 Altus Shrinkリアクターは、成形ゲート構造の高いアスペクト比の特徴を作り出すことができ、優れた設計柔軟性を実現します。さらに、このツールは、ゲート断熱材や高度な金属ゲート用のポリマーまたは窒化炭素材料のコンフォーマルナノレイヤーを堆積することができます。コンセプト2 Altus Shrinkリアクターは、フィルムの厚さをより良く制御するためのさまざまな予熱温度と、高品質で耐久性のある蒸着のための可変ポストアニール機能も可能です。さらに、高いフィルムスループットと生産効率、および組み込み診断機能を備えています。これは、レシピ制御、マスフローコントローラ、MFC監視、および追跡可能な結果のためのオンラインガスのパージと監視機能を含む完全に統合されたガス配信システムです。NOVELLUS Concept 2 Altus Shrink Reactorは、温度変動を最小限に抑えた広い領域での蒸着の均一性を向上させるとともに、予測可能な結果を得るためのプロセス安定性を向上させるためのプロセスチャンバーを正確に設計しました。また、ウェーハローディング、アンロード、ゴムストップウェーハチャック、レシピあたりのウェーハ数など、ウェーハ転送を自動化しています。また、フィードバックと品質管理のための使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイスとin-situ計測を備えた最先端のプロセス制御も可能です。