中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093689 を販売中

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2リアクターは、半導体デバイスの表面をコーティングするために使用される化学蒸着（CVD）リアクター装置です。このCVDリアクタは、20nm以下のプロセスジオメトリ用に特別に設計されており、高度なメモリおよびロジックデバイスの機能の開発に最適です。Altus 2リアクターのユニークな設計により、すべての堆積ニーズに最適な結果が得られます。Altus 2リアクターは、線形ロボットモーションシステムを利用しています。このモーションユニットは、材料を迅速に精密に堆積させることができます。加速された線形動き機械は高性能のガス配達用具と結合されます。この資産は、原子炉表面へのガスの急速な流れを提供し、迅速で正確な堆積を可能にします。Altus 2リアクターは、複数の堆積物を同時に実行することができます。デュアルソース機能を備えており、誘電体と金属の両方の蒸着を同時に、または複数の異なる材料を同時に可能にします。これにより、蒸着タスクの迅速なターンアラウンドが可能になり、生産のターンアラウンドタイムが短縮されます。Altus 2リアクターの高度なプロセス制御モデルは、タイトな許容範囲内で途切れることなく蒸着を保証します。装置は、迅速なプロセスの変更のために簡単に呼び出すことができるいくつかのレシピを保存することができます。Altus 2リアクターのビルドイン「クリーンで安全」機能は、任意のプロセスの変更がセンサーや原子炉の他のコンポーネントを汚染または損傷しないことを保証します。Altus 2リアクターのユニークな設計は、最大の性能と堆積の均一性のために最適化されています。特許取得済みの均一なガス供給システムは、基板のサイズや形状の均一性を保証します。Altus 2リアクターの3つのゾーン加熱機構は、熱損傷を最小限に抑え、基板への均一なプロセス結果を保証します。Altus 2リアクターは、高度なユーザー安全機能を備えて設計されています。Altus 2リアクターのオンボードモニタリングシステムは、潜在的な安全上の問題をユーザーに検出して警告することができ、迅速な解決を可能にします。プロセスチャンバー設計により漏れを防止し、無酸素環境を確保して原子炉を安全に運転します。CONCEPT 2 Altus 2リアクターは、半導体デバイス向けに設計された先進的なCVDリアクターユニットです。独自の線形ロボットモーションマシン、効率的なガス供給ツール、高度なプロセス制御資産を備えたAltus 2リアクターは、あらゆる堆積ニーズに対応する信頼性の高い正確なデバイスです。