中古 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093685 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 9093685
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1999
Chamber, 8"
Facility and Interface:
Altus module locations: Dual: Port 2 and 3
WTS (backbone) facilities connection configuration: Bottom facilities installation
Remote interconnect cables: 75 feet
DLCM-S:
ROBOT ASSY, MAG7, BISYMMETRIK ARM, DLCM: 02-262359-00
Transfer module to chamber valve (SMC Valve): 02-121427-00
Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02
Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00
Readiness kit: Dual altus ready
Software/Controls:
Module controller type: MC2
System software (QNX): MC2
DLCM-S IOC:
0 - IOC - 4.1
2 - IOC - 4.1
3 - IOC - 4.1
Altus IOC:
0 - SIOC - 4.30
1 - SIOC - 4.30
2 - SIOC - 4.30
3 (MPD) - SIOC - 4.10
Process Chamber configuration:
SHWRHD, 200 mm, Style B: 03-00258-00
ASSY, PED, 200 mm MOER, D.3, SEMI: 02-033134-01
EXCL RING, 200 mm, 2.0 mm OH SEMI: 15-032777-00
Indexer plate, HUB: 15-034848-00
INDEXCER, WF, EXCL, OPTION, 200 mm: 15-00934-02
Spindle assembly: 02-126697-00
OPT ENDPT DET'R, MSTR, ALT-S: 04-0120458-00
Throttle Valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00
Gate valve, vat: 60-10015-00
Gas box configuration (CESCVD02177B):
Manifold A 1: Aera FC-7800CD, AR/2 SLM
Manifold A 3: Aera FC-7800CD, H2/20 SLM
Manifold B 6: Aera FC-7800CD, C2F6/2 SLM
Manifold B 7: Aera FC-7800CD, O2/2 SLM
Manifold D 2: Aera FC-7800CD, SiH4/100 SCCM
Manifold H D: Aera FC-7800CD, Ar/20 SLM
Manifold W 4: Aera FC-7800CD. AR/20 SLM
Manifold W 5: Aera FC-7800CD, WF6/1 SLM
Manifold C 8: Aera FC-7800CD, Ar/10 SLM
Manifold C 9: Aera FC-7800CD, H2/20 SLM
Baratron:
Altus, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Altus, CAP MANOMETER, HEATED 10 TORR: 27-10343-00
Altus, Backside, CAP MANOMETER< HEATED 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, LOADLOCK, CAP MANOMETER, HEATER 100 TORR: 27-10340-00
DLCM-S, TM, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00
Supporting remote units:
(1) Process pump per process chamber: BOC Edwards, IH1000 - x2 for process pump typical
(1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards, i80 - x2 for pedestal pump typical
(1) TM pump per system: BOC Edwards, i80 - x1 for TM pump typical
(1) LL pump per system, BOC Edwards, i80, x1 for LL pump typical
1999 vintage.
NOVELLUS Concept 2、 Altus 2は、基板表面に高純度材料の薄膜を堆積させるために設計された化学蒸着（CVD）原子炉です。Altus 2は、エピタキシャルケイ素、ポリシリコン、酸化物、窒化物、炭化物などのさまざまな材料を300°Cから650°Cまでの高温で堆積することができます。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2は、モジュールベース、集積回路を備えたプロセスチャンバー、ドアアセンブリ、電源、ガスマニホールドなど、さまざまなコンポーネントで構成されています。CONCEPT 2 Altus 2原子炉は、基板を配置する円筒形のステンレス製のチャンバーで構成されています。部屋の壁は316Lステンレス鋼から成り、4。8mmの厚さを持っています。壁はチャンバーの底に向かって内側にテーパー状になっており、効率的な熱の分布を可能にします。基板はアルミニウムのヒートブロックの上に置き、所望の温度まで加熱します。源ガスは、配達システムを介してチャンバーの上部セクション（最大8インチ）で導入されます。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2リアクターは、DCモード（直流）またはRFモード（無線周波数）のいずれかで動作できます。DCモードでは、基板は低電圧電位で維持され、堆積物の連続膜の形成を可能にし、RFモードはフィルム層に金属粒子を形成します。電源は最大400A （DCモード）の電流を供給し、蒸着速度を変化させるように調整できます。CONCEPT 2 Altus 2には、フォースベースのフロー制御（FBFC）システムが内蔵されており、プロセスガスの正確な配送が可能です。原子炉の動作パラメータは、内蔵の制御システムを使用して調整することができ、堆積する材料の異なるレシピを切り替えることができます。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2にはさらに3つのガスマニホールドラインがあり、最大3つの反応ガスを同時にチャンバーに導入することができます。結論として、CONCEPT 2 Altus 2は非常に汎用性が高く効率的なCVD炉であり、高純度材料の薄膜を高度に制御された動作条件下で基板に堆積させることができます。それはそれが信頼でき、費用効果が大きい使用であるように複数の設計および安全特徴を特色にします。
まだレビューはありません