中古 NOVELLUS C2-CVDD Concept 2 #293648738 を販売中

NOVELLUS Concept 2 CVDD （Chemical Vapor Deposition）リアクターは、薄膜を高速かつ高い均一性で堆積させるために設計された最先端の多室化学蒸着装置です。このシステムは、独自のチャンバー設計により、高速な蒸着速度と低温動作範囲を実現し、より厚いフィルムを堆積させることができます。Concept 2 CVDDユニットは、ロードロックチャンバーとウェハトランスファーチャンバーで構成され、蒸着プロセスチャンバの出し入れに使用されます。ロードロックチャンバーは、直接ウェハローディングと転送にも使用されます。つまり、手動ローディングとアンロードは必要ありません。これは汚染を減らし、CVDD機械を使いやすくするのに役立ちます。蒸着プロセスチャンバーは、ガスプリミックスチャンバー、蒸着チャンバー、ガス貯蔵チャンバーからなるマルチチャンバー工具です。ガス混合チャンバーは、沈殿チャンバーに入る前に前駆体と不活性キャリアガスを混合するために使用されます。前駆体を事前に混合することにより、このプロセスは堆積プロセスの均一性を確保するのに役立ちます。成膜チャンバーは、薄膜の実際の成膜が行われる場所です。このチャンバーは、一般的に500C程度の低温で動作するように設計されており、より厚いフィルムを堆積させることができます。ガス貯蔵室は、必要な圧力と温度でガスを貯蔵するために使用されます。これにより、運転中のガス使用量を削減できます。CVDD資産全体は、堆積プロセスを管理し、結果を監視するために使用されるコンピュータモデルによって制御されます。NOVELLUS Concept 2 CVDD装置は、幅広い産業および研究アプリケーションで使用される信頼性と再現性の高いプロセスです。厚さ10nm〜500nmの薄膜を堆積することが可能です。さらに、このユニットは、アプリケーションに応じて透明、反射、および不透明な薄膜を堆積することができます。NOVELLUS Concept 2 CVDDマシンは、薄膜を堆積するための信頼性と汎用性の高いツールです。