中古 NOVELLUS Altus #9261397 を販売中

NOVELLUSアルタスは、NOVELLUSが開発した次世代先進の高圧化学蒸着（HPCVD）原子炉です。HPCVDの薄膜蒸着プロセスを20気圧以上の超高圧環境にもたらす最初の装置です。この画期的な技術により、優れた接着性、優れた品質管理、および低汚染による高品質で均質な薄膜の堆積が可能になります。Altusはマルチチャンバーシステムであり、蒸着、洗浄、アニーリングのための3つの独立したガス配送システムをサポートするメインチャンバーとインシットプロセスチャンバーを備えています。また、圧力と温度からガスの流れと混合まで、プロセス条件を正確に制御する革新的な高圧蒸着モジュールを提供しています。NOVELLUS Altusの成膜プロセスは、さまざまな種類の材料に合わせて調整することができます。それは非常に効率的であり、基質全体の層の厚さの均一な分布を保証します。さらに、汚染レベルが低く、欠陥を最小限に抑えた高品質の製品を提供します。Altusは非常に汎用性の高いユニットで、フラットパネルディスプレイ、半導体チップ、データストレージデバイスなど、幅広い薄膜蒸着アプリケーションに使用できます。また、エネルギーを節約するために設計されたエネルギー再生ろ過、ガス噴霧、低圧CO2掃除、バルブなどの機能を備え、エネルギー効率が良いように設計されています。NOVELLUS Altusマシンは非常にユーザーフレンドリーで、簡単に操作できます。安全で使いやすいメンテナンスプロセスと直感的なユーザーインターフェイスにより、迅速な操作とセットアップが可能で、ダウンタイムを削減します。全体として、Altusは優れた均一性、低汚染、超高圧蒸着能力を提供する先進的なHPCVD炉で、幅広い薄膜アプリケーションに対応しています。優れた性能と優れた薄膜のための高効率、汎用性、ユーザーフレンドリーなツールです。