中古 MATTSON EpiPro 3000 #9003702 を販売中
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ID: 9003702
Reactors
Dual station
Chamber: 94" x 50" x 62"
R2 Reactor chamber: 94" x 50" x 62"
Electrical console
AC Power module
Remote interface module
UPS Module
Pillar vacuum tube oscillator RF generators, 125 kW
Generator pump module: (Pillar only)
(2) Bell jars
RF Coils assy and quartz
Heat exchanger: Water to water
Gas inlet requirements:
Gas / Inlet pressure / Tubing diameter x wall thickness
N2 / 50-100 PSIG (1) / 3/8" x 0.035"
H2 / 50-80 PSIG (2) / 3/8" x 0.035"
HCL / 15 PSIG Regulated (3) / 1/4" x 0.035"
Dopants / 35 PSIG Regulated / 1/4" x 0.035"
SiCl4 / 20 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
SiHCl3 / 20 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
SiH2Cl2 / 7 PSIG Minimum / 3/8" x 0.035"
Pneumatic Air/N2 / 90-100 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
N2 (Vacuum seal) / 80-100 PSIG (3) / 1/4" x 0.035"(1)
Gas purity:
H2: Greater than 99.95% minimum assay
Oxygen content must be less than 2 ppm
Water content must be less than 2 ppm
HCl: Greater than 99.99% (semiconductor grade)
Silicon sources – Greater than 100 ohm/cm intrinsic
Dopants: Greater than 99.99% H2 free basis
Maximum gas flows and volumes:
System / H2 / N2 / H2 / N2
Mainstream / 300 / 70 (2) / 300 / 70
High flow bypass (Fixed) / 200 / 100 (1) / 200 / 100 (1)
SiCl4 / SiHCl3 Carrier / 30 / - / - / -
Dopants dilution / 30 / - / - / -
RF Coil / Lower reactor purges / 30 / 10 / 30 / 10
Gas panel purges (Fixed) / 12 / 4 / - / -
Rotation purges (Fixed) / 10 / 2 / 10 / 2
Total N2/H2 flows / 612 / 186 / 540 / 182 (1) N2 flow rate during pre-post purge
Quartz cleaning facility:
Pedestal / 30-0R-281 / 4 1/2" diameter x 12" long
Support rod / 30-0R-139 / 1" diameter x 5" long
Coil cover / 30-0Z-000 / 25" diameter x 2" thick
Insulator, high Side / 30-0Z-857 / 3" diameter x 6" long
Insulator, bottom / 30-0Z-766 / 4 1/2" diameter x 1/4" thick
Insulator, top / 30-0Z-791 / 4 1/2" diameter x 1/4" thick
Insulator, high side / 30-0Z-793 / 5" x 4"
Insulator, middle / 30-0Z-794 / 5" x 4"
Inject tube / 30-0Z-758 / 1/2" diameter x 11" long
Tube cover / 30-0Z-1037 / 1/2" diameter x 9" long
Rod, fiber optic / 30-0Z-1037 / 1/4" diameter x 13"
Power requirements:
RF Generator: 480 VAC, 400 A, 3-Phase, +GND
Water system: 480 VAC, 30 A, 3-Phase, +GND
Electrical service: 10 KVA at 200-240 VAC, 50 amps, 50/60 Hz, single phase, 3 wire (6 ga) plus ground.
MATTSON EpiPro 3000は、大面積のエピタキシーと堆積のために設計された高度な半導体成成炉です。この原子炉は、所有コストを削減して信頼性の高い生産を提供します。最大500mmウェーハの高温・高精度動作を特長とし、オーナーシップのコストを大幅に削減して再現性の高いプロセス均一性を実現します。EpiPro 3000は、高度な設計と機能を使用して、各半導体の蒸着プロセスにおける再現性と精度を確保します。低振動の衝突のないガス源を備えており、真に均一な処理結果を得ることができます。ウェーハステージは、最高の安定性と再現性を提供する超精密なモーションコントロール装置によって駆動されます。高温動作は、高効率で金属セラミックスのクラッド断熱材を使用して最適化されています。特許取得済みの封じられた電極駆動システムは、振動とドリフト補償の必要性を排除し、正確な電極タイミングと最大限の安定性を保証します。MATTSON EpiPro 3000は、プログラマブルなレシピ管理、現場での分析と監視、分散ネットワークなど、さまざまなパフォーマンス向上機能を提供します。これらの機能により、ユーザーは各堆積プロセスに対してより大きな制御と高精度を提供します。オペレータの介入を最小限に抑えることが必要な統合制御ユニットにより、原子炉の使い勝手がさらに向上します。さらに、EpiPro 3000は、ガスパージやスクラバーユニットなどの環境保護機能を備えています。これは、原子炉が地域の安全基準を満たしていることを保証します。原子炉は安全性と信頼性を念頭に置いて構築されており、稼働時間とプロセスの安定性を最大化するために効果的な予防保全機械が装備されています。MATTSON EpiPro 3000は高度で高性能な蒸着炉で、プロセスの再現性と精度に優れています。その低コストの所有権とユーザーフレンドリーな設計により、大面積の半導体の蒸着プロセスを含む幅広いアプリケーションに最適です。
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