中古 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9315037 を販売中

LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus
ID: 9315037
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2003
Metal CVD system, 12" 2003 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Altusは誘電体フィルム用に設計された先進的な熱真空炉です。真空チャンバー、放射線源、チャンバー圧力コントローラ、ヒーター、マスフローコントローラ、ガス配分装置で構成されています。真空チャンバーは、沈着および沈殿後のプロセスにクリーンな環境を提供します。放射源は沈着プロセスに必要な条件を作成し、チャンバー圧力コントローラはチャンバー内の圧力を調整します。ヒーターは、蒸着プロセス中に適切な温度が維持され、マスフローコントローラが圧力を計測してガスの効率的な使用を保証します。ガス分配システムは、均一なプロセスのためにチャンバー全体に窒素と水素を分配します。ユニットはまた、沈殿を確実にするためにチャンバーのパージングプロセスを監視します。NOVELLUS Altusは、複数のレシピやプログラムを通じてサイクルタイムとスルー・プットの最適化を利用しています。誘電体成膜のための費用対効果の高いソリューションで高い再現性を提供します。この機械は、汚染や欠陥を最小限に抑えながら、高品質の発光層の薄膜蒸着用に設計されています。さらに、このツールのオプションのプロセスコントローラは、ソフトウェアベースのプロセス制御とデータ管理を提供します。LAM RESEARCH Altusは、信頼性が高く、堅牢でユーザーフレンドリーな資産で、複数のアプリケーションに高度な熱真空蒸着を提供します。
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