中古 GSI UltraDep 1 #9304746 を販売中
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ID: 9304746
ウェーハサイズ: 4"-6"
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) System, 4"-6"
Deposition temperature: 200° - 400°C
Deposition rates range: 100 - 400 nm/min
Amorphous silicon (dropped and un-dropped)
Load lock
Single wafer load
Dual frequency
Microprocessor
Computer controlled
Stress controlled silicon nitrides
Oxynitride: 1.46 - 2.0 Refractive index range
TEOS Oxide
Doped oxide
PSG
BSG
BPSG
Configured with:
Helium
Nitrous oxide
Ammonia
Silane oxides
TEOS (Direct liquid inject)
PH3, B2H6 / He dopant mix
Oxygen
CF4 Gases
Oxide based:
Normal
Low stress
Nitride:
Stoichiometric
Low stress
Spare parts:
MFC
Hot plates
(2) Heaters
Pump missing
RF Supply for stress control: 13.56 MHz and 200 kHz.
GSI UltraDep 1は、屋外と屋内の両方の原子炉の利点を組み合わせた革新的な原子炉設計です。この新しい原子炉の設計には、空冷式、乾式アーチ型、自立型容器が採用されています。この原子炉エンクロージャには、原子炉心を収容する鋼製の容器と、原子炉から周囲への熱の伝達を最小限に抑えるための独自の熱および構造的に絶縁されたドラフトチューブが含まれています。このタイプの原子炉は「圧力容器」原子炉として知られています。この設計により、漏れによる水質汚染のリスクを低減し、原子炉からの誤った放出の可能性を最小限に抑えることができます。さらに、費用対効果が高く、効率的で、放射線被ばく防止に効果的です。従来の原子炉とは異なり、UltraDep 1はウラン濃縮のユニークな形を利用しています。これは、使用される燃料がすべて1つの場所にあることを意味します。これにより、燃料の頻繁な移動による汚染のリスクを低減し、非常にコンパクトな設計を可能にします。この設計はまた、燃料が動かず、単一の場所に保管されるため、安全性が向上します。つまり、燃料の混乱のリスクはありません。さらに、この新しい原子炉の設計は、アクティブな水循環システムに依存しないため、必要なメンテナンスを大幅に削減します。代わりに、原子炉は水ベースの冷却ループを意味する「ドライラン」モードで動作することができます。これにより、安全性が向上し、設計の複雑さが大幅に軽減されます。GSI UltraDep 1は、高い変換速度でエネルギーを生成することができ、これにより効率が向上し、運用コストが削減されます。また、原子炉心はより高い温度を維持しているため、安全基準を守りながら出力を増やすことができます。全体的なUltraDep 1は、屋外と屋内の両方のリアクターの利点を組み合わせた画期的なリアクター設計であり、汚染、燃料の混乱、および放射線被ばくのリスクを低減します。この原子炉の設計は、高出力を生成し、より効率的に動作し、他の従来の原子炉の設計よりも少ないメンテナンスを必要とする能力を持っています。
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