中古 CSD EPITAXY EpiPro 5000 #293771200 を販売中

CSD EPITAXY EpiPro 5000は、先進的な光電子デバイス製造用に特別に設計された最先端のエピタキシー炉です。独自のモジュラー設計により、設置が容易で柔軟な構成で、さまざまな技術ニーズに対応できます。この原子炉は、ユーザーフレンドリーな操作を可能にするために特別に設計されており、最大の性能に最適化されています。エピタキシー・リアクターは、複数のガス・フローを備えた特別に設計されたクローズド・ループ溶液を使用しているため、プロセス・チャンバを最適な環境で保持することができます。精密温度線形化は3ゾーン設計で行われ、ドーパントフラックス性能を正確に制御できます。原子炉自動ドーピングフラックス制御、最高温度1250°C。プロセス部屋にまた取り外し可能なはさみ金があり、維持およびクリーニングを容易にします。EpiPro 5000には、ウェーハをプロセスチャンバーに安全かつ迅速に搬送するための自動ロードリフティング装置が装備されています。数値制御システムは使いやすく、ガスの流れ、温度、圧力の正確な設定が可能です。さらに、高度なパルス水晶ユニットを使用すると、プロセスの安定性を向上させるために、いつでもプロセスパラメータを調整できます。CSD EPITAXY EpiPro 5000は、FOD（異物破片）汚染から保護するためのカスタマイズ可能なシールドガスを備えています。定圧機械は密閉されたチャンバーを維持し、漏れ率を最小限に抑え、処理環境を最適化します。部屋の内部の壁は耐久性および優秀な性能を提供するステンレス鋼です。EpiPro 5000は、包括的な安全ツールも備えており、常に安全な操作を保証します。アセットには、温度および圧力センサー、および複数の警告および停止ライトが含まれています。リアルタイムモニタリングにより、運転中の原子炉のピーク状態が維持されます。直感的なソフトウェアと制御モデルを使用すると、CSD EPITAXY EpiPro 5000をリモートで監視および操作できます。結論として、EpiPro 5000は、信頼性が高くユーザーフレンドリーな機能を備えた汎用性の高い原子炉です。高度な機能とカスタマイズ可能な動作パラメータにより、このエピタキシー炉は高度なオプトエレクトロニクスデバイス製造に最適です。