中古 CANON / QUESTER APT 4800 #9251318 を販売中

キヤノン/QUESTER APT 4800は、半導体やフラットパネルディスプレイの製造に使用される先進的な生産ツールです。この原子炉には、凍結フレームのレーザビームスパッタリング成膜/エッチング工程とパルスレーザー熱アニーリング工程の両方が装備されています。比類のない精度、精度、スループット、スケーラビリティを提供します。キヤノンAPT 4800のレーザビームスパッタリング蒸着プロセスは、レーザビームを集光し、表面に誘電体、金属金属、金属酸化物材料の高均一な膜や層を製造するのに最適です。それは0。5から100ミクロンまで及ぶ厚さのフィルムを沈殿させることができます。レーザービームは、多層フィルムを製造する際にガスとイオンを混合します。これにより、従来のスパッタリング方法と比較して、優れたフィルム品質と均質性を実現します。QUESTER APT 4800のパルスレーザー熱アニーリングプロセスは、従来のアニーリングシステムでは実現できなかった均一性と再現性のレベルを確保するために、幅広いチャンバー圧力と温度を備えています。このプロセスはまた、結晶化合物の生産において優れた性能を提供し、優れた再現性を持つ高導電性および高品質の膜を作成するために使用することができます。APT 4800は汎用性の高い生産ツールです。均一で再現性の高い基板に薄くて厚い層を素早く堆積させることができ、優れたフィルム品質を提供します。さらに、プロセス間でパラメータを調整できるため、費用対効果の高い生産が可能です。さらに、複雑な光学特性と電気特性を備えた高度な薄膜構造を生成することができるため、高度なディスプレイおよびダイオード製造に最適なツールです。