中古 ASM / ACCU-FAB Epitaxy / 1250 #156237 を販売中

ID: 156237
EPI reactor Includes: ACCU-FAB 1250 max servo motion controller system: Power: 115 VAC +/- 10%, 50/60 Hz, Single Phase, 1500 VA Max EPI reactor loader Built to interface EPI reactor with a Smith interface (1) 8" cassette (up to 26 wafers) ACCU-FAB 1250 servo controller: 19" rack mountable chassis AT bus Two RS-232 ports 64k non-volatile CMOS memory (10) Relay outputs (12) Optically isolated inputs 5.25 or optional 3.5 floppy disk drive, hard disk, and 1 MB RAM Built-in CRT and keyboard ACCU-FAB Accubot: Compact, clean-room compatible Four-axis SCARA style robot Four independent joints, cassettes can be located side-by-side vs radially Range of Motion: Standard Axis 1 (Z): 9.25 Inches Custom Axis 1 (Z): 9.3 to 30.0 Inches available Axis 2: +/- 157 Axis 3: +/- 179 Axis 4: +/- 169 R1 (centerline A1 to centerline A2 = 15.0 inches to tool flange): 7.5 Inches R2 (centerline A2 to centerline A3): 7.5 Inches Repeatability: +/- .002 Inch Weight: 86 Pounds (Does not include the entire item or Shipping I believe) Maximum Speed: Axis 1: 10 in. /sec. Axis 2: 180 / sec. Axis 3: 180 / sec. Axis 4: 180 / sec. Accelerations: 32 inch / sec^2, 540 / sec^2 Payload: At maximum speed: 3 lbs. At reduced speed: 6 lbs. Allowable end effector moment of interia: .02 inch-pounds-sec^2.
ASM/ACCU-FAB エピタキシー/1250は、エピタキシーに使用されるプロセス機器で、1つの基板表面上に異なる材料の層を成長させる技術です。具体的には、ASM 1250は半導体(Si、 GaAs、 InP)および光学基板上のエピタキシー層の製造用に設計された幅広い用途向けの水平炉です。1250は、クオーツチューブに挿入可能なウェハカヌー、酸化剤、ロードロック、ヒーター、キャリアガスで構成されるマルチゾーン炉です。この炉は最大12インチのウェーハ処理が可能で、4インチの水晶管の直径と30。5cmの管の長さが装備されています。これにより、1250は基板表面全体にわたって温度の均一性を高め、より高いプロセス精度をサポートします。また、エピタキシー基板は、固定温度勾配上のガスの連続的な流れを受信することができます。1250は、重要な領域で正確な温度制御を可能にするマルチゾーン制御システムを備えています。これはエピタキシーの均一性とプロセスパラメータの再現性を高めるのに役立ちます。さらに、1250には、フローコントローラ、圧力インジケータ、ロータメーター、マスフローコントローラ、バブラコントローラなどの補助部品が装備されています。これらのコンポーネントは、エピタキシー過程にガスとキャリアの流れを正確かつ均一に投与することを可能にします。1250には、エピタキシー・プロセスの遠隔監視を容易にするサーボ制御プラットフォームと組み込みマイクロプロセッサも含まれています。これにより、プロセスの安全で正確で再現性のある動作が保証されます。全体として、ASM エピタキシー/1250リアクターは、半導体および光学基板上のエピタキシー層を製造するための最先端のプロセス装置です。高品質で信頼性の高い半導体デバイスの生産者に最適です。正確な温度制御、低メンテナンスコスト、および便利なリモート監視機能により、1250は幅広い用途にエピタキシー要件を提供できます。
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