中古 APPLIED MATERIALS Producer III #176119 を販売中
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販売された
ID: 176119
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2002
BPSG Twin Chamber, 12"
MKS ASTeX Astronex
2002 vintage.
APPLIED MATERIALS Producer IIIは、薄膜材料の製造に使用される高性能ツールです。これは、高品質で均一な薄膜の堆積を制御することができる高度な原子炉装置です。Producer IIIは、高い精度と再現性を備えたマルチソース・マルチターゲットマシンです。このシステムは、最大10-9 torrのベースプレッシャーを達成できる真空チャンバーを使用しています。チャンバーには、上部基板ポジショナーと外部ロードロックが装備されています。統合されたソース基板とターゲットは、効果的な分離を達成し、均一性を維持するために、各ソース材料間のセラミック絶縁体とジルコニアで作られています。アプライドマテリアルズ・プロデューサーIIIは、デュアルビーム電子ビームを利用しています。電子ビームは、薄膜の優れた均一性と品質を保証する厳密に制御されたプロセスで基板上のソース材料を蒸発させるために使用されます。デュアルビームと高真空環境の組み合わせにより、高レートで高精度な蒸着プロセスに最適です。この機械は、電子ビームにさらされながら、基板が反応ガスにさらされる反応性成分にも使用できます。電子ビームと反応ガスの組み合わせにより、薄膜の組成を正確に制御し、複雑な薄膜構造を作製することができます。Producer IIIツールには、多数のプロセス制御および監視ツールが装備されています。これらには、リアルタイムプロセスモニタ、プロセス条件のデータロギング、薄膜蒸着プロセスの精度を向上させる統合された自動基板配置アセットが含まれます。これらのツールにより、ユーザーはより高い精度でプロセスを監視および調整することができ、薄膜構造の均一性と品質をより厳密にすることができます。APPLIED MATERIALS Producer IIIは、薄膜材料を製造するための汎用性の高い高性能ツールです。薄膜構造の優れた均一性と品質を提供することができます。デュアルエレクトロンビームを使用することで、蒸着プロセスを高精度に制御することができ、複雑で高精度な薄膜構造を実現します。リアルタイムのプロセス監視およびデータロギングツールにより、高レベルのプロセス制御が可能になり、高いレベルの品質と均一性が保証されます。
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