中古 APPLIED MATERIALS P 5000 #163402 を販売中

アプライドマテリアルズP 5000は、電子材料および半導体材料の商業生産に使用される特殊な化学蒸着（CVD）原子炉です。具体的には、多結晶シリコン、ポリシリコンTFT（薄膜トランジスタ）、ポリシリコンゲート、ポリシリコン（酸化ポリシリコン窒化物）材料の製造に使用される応用材料P5000です。この多目的システムは、真空チャンバー内の化学前駆体を分解して、基板上の材料のフィルムまたは層を形成することによって機能します。この蒸着プロセスは、化学蒸着として知られており、高温および精密な圧力制御が必要です。P-5000炉は、信頼性の高い効率的な生産作業に必要な高いレベルの制御と精度を提供します。その先進的な設計には、前駆原料、リアクタント、不活性ガスがロードされている別の分配チャンバー、および沈殿が行われる反応チャンバーが含まれています。P 5000リアクターはまた、温度、圧力、酸素流量などの幅広いプロセスパラメータを備えています。応用材料の中心にP-5000原子炉は400°Cと960°Cの間のプロセス温度の範囲を可能にする高出力の暖房システムです。これは、堆積プロセスの複雑さを軽減し、基板上の一貫した膜の層を維持するのに役立ちます。また、P5000リアクターには、超精密ウェーハ反応チャンバーとオプションのファン支援冷却が搭載されており、蒸着プロセスの効率と製品品質をさらに向上させます。APPLIED MATERIALS P 5000リアクタシステムには、高度なオートメーションおよび制御システムが標準装備されており、人員と機器を保護するための安全機能、および製品仕様に準拠するためのオフライン監視システムが備わっています。さらに、耐腐食性部品やメンテナンス要件を低減するために使用される保護コーティングを備えています。全体として、APPLIED MATERIALS P5000原子炉は、電子材料および半導体材料を作成するために使用されるCVDプロセスのための信頼性が高く、効率的で費用対効果の高いソリューションを提供します。それは高度の設計、精密機能および理性的な制御システムそれを商業生産のための優秀な選択にしますです。