中古 APPLIED MATERIALS P 5000 Mark II #67130 を販売中

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ID: 67130
Metal etch system, 6" Configuration details: Precision 5000 Mark II MxP Etch system 6” Mark II mainframe containing load lock chamber Cassette to cassette wafer handling VME system controller with hard disk and floppy disk storage 28 line compatible on-board gas panel Bolt down load lock chamber lid and load lock purge system Microprocessor controller including CRT display, self diagnostics, host computer interface via RS232 port SECS II protocol Standard floppy and hard disc (170NMB) storage Etch chambers include: Temperature controlled pedestal Magnet modules and cylinder lift mechanisms Slit valve, gas distribution components RF isolator, RF match Capacitance manometer, throttle valve Independent helium cooling Integrated end point detector Remote package including pumps, RF power supplies, heat exchanger, NESLAB recirculator, main AC box and other facilities Fifty foot remote package cable length Features: (2) metal etch chambers and one strip chamber system Chamber A: 6” clamped metal etch process kit Chamber B: 6” clamped metal etch process kit Chamber C & D: 6” advanced strip and passivation chamber Including 1200 Watt generator process kit, hardware gas distribution plate and MFC controller gas line per chamber 6” metal etch process kit with: AL etch ceramic fingered basic kit 0240-31587E 0.95” fingered ceramic focus ring 0240-09757E Tapered head SiC DC Pick-ups 0240-31359 Unilid gas distribution plate - 119holes 0020-32259 6” advanced strip and passivation chamber process kit basket style wafer support Gas panel A&B: BCL3, Cl2, CF4, N2, SF6 / C: O2, N2, H2O Through the wall system Heat Exchanger AMAT 1 and Heat Exchanger AMAT0 (1) NESLAB HX150 is missing (1) etch chamber is leaking glycol (can be repaired but it is better to change the body chamber) Second chamber has been repaired for the same problem Machine was in production until Q3 2009 Currently installed in fab Gases are purged and the machine is powered off Can be inspected and powered on to see software only Spare parts available, list is shown in photos 1998 vintage.
アプライドマテリアルズP 5000 Mark IIは、多種多様な材料の多段蒸着プロセス用に設計された高性能な構成可能な並列処理炉です。これは、市場で最も先進的な堆積装置であり、比類のないプロセス柔軟性と監視機能を提供します。APPLIED MATERIALS P5000 MARK IIは、最大5。5 x 4。0メートルのチャンバーに対応できる大量生産プロセスのリアクターで、最大20個の同時チャンバと1時間あたり8,400個のウェーハの総処理を可能にします。75mmから300mmまでのウェーハサイズを精密に処理でき、1つの原子炉室内で多種多様なin-situ診断、品質保証試験、電気特性評価を行うことができます。このシステムは、自動化された線量制御、チャンバーサイクル、結果報告、パラメトリック最適化、および障害検出および予防などの機能を備えた、業界をリードするレベルのプロセス制御と均一性を提供します。P 5000-MARK IIは、工程の迅速なメンテナンスと工具交換のために設計された高度な交換可能な台座も備えています。ウエハカセットと高性能ガスデリバリーユニットにより、一貫したプロセスの再現性と均一性を実現します。複数の真空ポンプと排気ポートを備えた統合型真空機は、信頼性の高い動作を提供し、プロセスの漏れを最小限に抑えます。応用材料P 5000 MARK IIは、炭化ケイ素、窒化ガリウム、銅インジウムガリウムなどの高度な半導体材料の製造用に特別に設計されています。これは、放射状プラズマ、スパッタリング、光の露出、および原子層の堆積(ALD)を含む堆積プロセスの範囲を実行することができます。そのHMIソフトウェアは、すべてのチャンバーパラメータのグラフィカルモニタリングとトレンド分析、フルスプレー解析と最適化を提供します。P 5000 MARK IIは、最高レベルの精度と柔軟性を備えた信頼性の高い高スループットプロセスリアクターに最適です。洗練された統合されたHMIにより、最も厳しい生産要件を満たすための費用対効果の高いソリューションを提供します。その信頼性、一貫性、自動化されたプロセスの再現性により、最高の歩留まり、品質、およびスループットが保証されます。
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